此類公司直接銷售晶圓廠最核心機台,是前段設備概念中 受惠純度最高 的族群。ASML 壟斷 EUV,應用材料橫跨沉積、CMP 與材料工程,科林研發強在蝕刻與清洗,科磊掌握量測檢測,東京威力科創卡位塗佈顯影與清洗。2 奈米 GAA、HBM4、NAND 高層數與先進封裝提高 蝕刻、沉積、製程控制密度,benefit_level 多為 Critical;重點追蹤 book-to-bill、積壓訂單、毛利率與出口管制。
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美股 ASML艾司摩爾受惠最高
- 1. ASML 是全球唯一可量產 EUV 曝光機的供應商,2 奈米 GAA、Intel 18A 等先進節點均需其設備,壟斷地位帶來高定價權與直接訂單。
- 2. 2026 年第二季營收達 93.26 億歐元、年增 21.24%,公司將全年營收指引上修至 430~450 億歐元,反映 AI 先進邏輯與 HBM 擴產已轉為實際出貨。
- 3. Low-NA EUV 2026 年產能規劃約 65 台,2027 年再增約 30%,且幾乎已取得滿足 2027 年需求的訂單;產能擴張提供中期營收能見度。
- 4. 裝機管理業務 2026 年第二季營收達 27.62 億歐元,客戶持續購買升級與維護服務,讓 EUV 裝機基數擴大轉化為較穩定的高毛利收入;出口管制仍是中國業務風險。
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美股 AMAT應用材料受惠最高
- 1. AMAT 覆蓋沉積、蝕刻、CMP、離子植入、檢測及先進封裝;2 奈米 GAA、HBM 與 3D 堆疊增加製程步驟,使其可從多個關鍵站點承接設備訂單。
- 2. Q3 FY2026 營收創高至 91.2 億美元、年增 25%,Semiconductor Systems 達 70.4 億美元;其中 DRAM 占 26%,含 HBM 的 DRAM 營收年增 52%,顯示 AI 記憶體擴產已轉化為實際出貨。
- 3. 管理層將 2026 年先進封裝營收成長預期上修至逾 70%,客戶提供 rolling 8-quarter forecasts,且單季新增逾 10 個晶圓廠專案,先進封裝、DRAM 與邏輯設備訂單能見度延伸至 2027 年。
- 4. AGS Q3 FY2026 營收 17.81 億美元、年增 22%,占公司營收約 19.5%,裝機基數擴大可帶動備件與維護收入;但中國出口管制及 AI 資本支出放緩,仍可能造成訂單遞延。
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美股 LRCX科林研發受惠最高
- 1. 科林研發主攻乾式蝕刻、沉積與清洗;2 奈米 GAA 及背面供電增加選擇性、高深寬比蝕刻與薄膜步驟,直接提高單片晶圓設備含量。
- 2. 公司在 3D NAND 高深寬比蝕刻具領先地位,NAND 轉向 200 層以上、DRAM/HBM 擴產及 TSV 深孔蝕刻,將同步推升設備升級與新機需求。
- 3. FY2026 全年營收達 232.3 億美元、年增 26%;先進封裝營收預期年增逾 70%,反映 HBM、2.5D/3D 封裝已成具體成長動能。
- 4. FY2026 Q4 客戶支援業務營收達 24.7 億美元、年增 43%,連續第三季創高;但中國營收占比降至 26%,出口管制與記憶體循環仍是主要風險。
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美股 KLAC科磊受惠最高
- 1. KLA 掌握製程控制與量測約 58% 市占;2 奈米 GAA、A16 與 HBM 結構更複雜、缺陷容忍度更低,將提高每片晶圓檢測密度與設備含量。
- 2. KLA 將 2026 年先進封裝製程控制營收目標上修至約 11 億美元、年增逾 70%;CoWoS、SoIC 與混合鍵合擴產,正把前段檢測技術需求延伸至封裝良率管理。
- 3. 截至 2026 年 6 月底未交貨訂單預估約 125 億美元,且公司預期 2026 年下半年營收較上半年成長約 20%;新廠進機與客戶提前規劃支撐 2027 年營收能見度。
- 4. 服務營收年增 16%,約 80% 為合約型收入,可隨 5.7 萬台以上裝機基數擴大而提供高毛利經常性現金流;但記憶體零組件成本與中國出口管制仍可能壓抑毛利與接單。
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日股 8035東京威力科創受惠高
- 1. 東京威力科創在塗佈顯影設備市占約 90%,並布局蝕刻、薄膜沉積與清洗;2 奈米 GAA、HBM 與 3D NAND 製程步驟增加,直接提升機台需求。
- 2. 公司預估 2026 年 WFE 市場超過 1,500 億美元、2027 年超過 1,900 億美元;AI 先進邏輯與記憶體擴產同步,支撐 TEL 中期接單與營收成長。
- 3. FY2026 營收創高達 2.44 兆日圓、純益 5,745 億日圓;FY2027 上半年營收指引年增 33.1%,顯示 AI 設備需求已由產業展望轉為公司業績動能。
- 4. 累計裝機量超過 10 萬套,維修、零件與改機服務提供高黏著收入;但 FY2026 中國營收占比降至 27%,出口管制與中國需求波動仍需留意。