上游涵蓋 EUV／DUV 光罩坯、石英基板、多層反射膜與護膜相關材料，是先進光罩能否達到近零缺陷、超高平坦度的起點。HOYA 在 EUV mask blanks 具寡占地位，台積電、三星、Intel 先進製程擴產越快，受惠越直接；AGC 是少數可商業供應 EUV 空白光罩的第二供應源，受惠日本在地化與 High-NA 規格升級；信越化學則偏光罩坯料、護膜框架與微影材料。觀察重點是 High-NA EUV 規格、良率、擴產進度與出口管制風險。
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日股 7741HOYA受惠最高
- 1. HOYA 掌握 EUV 空白光罩基板核心供應，市占約 70%~80%，台積電、三星、Intel 先進製程越擴產，單片高單價 blank 需求與議價力同步放大。
- 2. EUV blank 必須做到近零缺陷、超高平坦度與多層 Mo/Si 堆疊，HOYA 與客戶長年共開發，驗證週期長、切換成本高，幾乎卡死先進節點供應鏈。
- 3. 2026 年 3 月期資訊通訊事業營收年增 14%、部門利益年增 12.9%，EUV blanks 出貨強勁；新加坡新廠持續擴產，2028 年起可望放量。
- 4. 3 奈米已量產，後續 2 奈米、1.4 奈米與 High-NA EUV 進一步推升 mask blanks 需求；HOYA 也布局 phase shift 與次世代產線，享受規格升級紅利。
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日股 5201AGC受惠高
- 1. AGC 是少數可商業供應 EUV 空白光罩的廠商之一，2025 年出貨年增約 50%，直接受惠 2 奈米與 High-NA EUV 放量帶動的高單價需求。
- 2. EUV blank 需超高平坦度、近零缺陷與多層反射膜，AGC 具量產良率與供應穩定性優勢，切換成本高，台積電與三星擴產越快越有利。
- 3. 電子材料事業已把 EUV mask blanks 列為成長主軸，2024 年相關銷售達 400 億日圓以上，且管理層預期未來可維持 40% 以上年增。
- 4. AGC 已完成 2 奈米等級 EUV blank 開發並部分客戶認證，搭配日本在地化供應鏈與新產能布局，能卡位 High-NA 規格升級紅利。
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日股 4063信越化學受惠中
- 1. 光罩坯料事業供應 OMOG、half-tone PSM 等高階 photomask blanks，先進節點與 EUV 滲透率升高時，材料單價與出貨量同步墊高。
- 2. 掌握 EUV 護膜框架、氣壓平衡通道與 Particle filter 等關鍵結構，EUV／High-NA 對防塵、耐熱與低除氣要求升級，直接拉動高階材料需求。
- 3. 伊勢崎新基地規劃 2026 年完成第一階段投資，成為第 4 座半導體微影材料生產基地，擴大光阻與光罩材料供給能力，強化對大客戶供應韌性。
- 4. 2026 財年電子材料營收 1 兆 157 億日圓、年增 9%，營業利益 3,445 億日圓、年增 6%，AI 與先進製程帶動光罩與晶圓材料持續成長。
