美光 NVHBM 改採外部晶圓代工 客製 HBM 瞄準輝達、毛利率反而看升

發佈時間:2026/10/02 · 編輯整理

Base Die 改由晶圓代工廠生產 客製化 HBM 有望創造更高附加價值

美光(MU)進一步揭露與輝達(NVDA)合作的客製化高頻寬記憶體(HBM)「NVHBM」進展。美光表示,NVHBM 以及新一代 HBM4E 產品,都將採用晶圓代工廠生產的 Base Die,與目前 HBM4 採用自製 Base Die 的方式不同。

美光首席技術與產品長 Scott DeBoer 在 2026 會計年度第 4 季財報會議表示,公司與輝達共同設計的客製化 NVHBM,以及符合 JEDEC 標準的 HBM4E 產品,都將以晶圓代工製程開發 Base Die。

Base Die 位於 HBM 堆疊結構最底層,負責連接上方多層 DRAM Core Die 與外部 CPU、GPU 等運算系統,並處理資料讀寫與錯誤修正,因此對記憶體的效能、功耗及穩定性具有重要影響。

HBM4E 採先進製程 外包 Base Die 仍可望改善 PPA 與獲利

美光目前 HBM4 的 Core Die 採用 10 奈米級第五代 1β 製程,搭配自製 Base Die;到了 HBM4E,則將改用第六代 1γ 製程生產 Core Die,而 Base Die 則交由晶圓代工廠生產。

市場推測,HBM4E 的 Base Die 可能採用台積電(2330)先進製程。相較美光過去自行生產 Base Die 所使用的成熟製程,外部晶圓代工的先進製程有助於改善晶片功耗、效能及面積(PPA),NVHBM 也將採用相同架構。

雖然 Base Die 改由外部代工生產,但美光認為 NVHBM 仍可帶來更高平均銷售價格(ASP)及更好的利潤表現。美光營運長 Manish Bhatia 表示,HBM 本身就是高階產品,而加入客製化功能後,NVHBM 可創造更高的附加價值;若商業化順利,預期能帶來良好的投資報酬。

NVHBM 是輝達與記憶體廠、晶圓代工廠共同設計的客製化 HBM,主要針對 AI 加速器進行最佳化,並採用輝達 NVLink Fusion 互連規格,在部分遵循 HBM4E 標準的同時,透過客製化 Base Die 提升整體效能。

客製化設計降低功耗 15% 記憶體頻寬最高提升 30%

相較標準 HBM,NVHBM 的重要差異在於客製化 Base Die。其將原本位於主要運算晶片內的記憶體控制器整合至 Base Die,可望降低功耗並提升記憶體效率。

相關設計預計可讓功耗降低約 15%,記憶體頻寬最高提升 30%;此外,輸入輸出(I/O)所需的實體層(PHY)也採客製化整合,封裝面積最高可縮減 67%。

美光表示,即使採用外部晶圓代工廠的 Base Die,仍將透過自身 HBM 技術,在功耗效率、速度效能及運作裕度等方面維持競爭優勢,並與客戶合作進一步提升系統層級效能。

美光看好 Physical AI 人形機器人有望成下一波記憶體需求來源

除了 AI 資料中心,美光也在財報會議中看好「Physical AI」帶來的新需求,認為自駕車、人形機器人及其他自主系統,未來都可能成為記憶體與儲存市場的重要成長動能。

美光執行長 San​​jay Mehrotra 指出,自駕車已是 Physical AI 的重要應用,單一系統可能需要超過 200GB 記憶體及數 TB 儲存空間;隨著相關技術延伸至人形機器人及其他自主設備,Physical AI 有望在本世代末期成為記憶體與儲存需求的重要推動力,目前已有數家 Physical AI 客戶開始採樣美光下一代產品。

美光也預期,Physical AI 將使原本主要部署在資料中心的高容量、高效能記憶體,逐步延伸至大量資料中心以外的智慧設備,成為 AI 記憶體市場另一項值得關注的長期需求來源。

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