中國自製 DUV 曝光機量產震撼市場！艾司摩爾重挫、半導體設備股跳水
Celine
中國突破光刻機瓶頸 引爆設備股賣壓
原本受惠於 AI 投資熱潮而走高的半導體設備股，周一（7/27）卻上演戲劇性反轉。市場原先因美伊地緣政治緊張局勢降溫，以及《華爾街日報》披露輝達（NVIDIA，NVDA）正洽談為 OpenAI 規模高達 2500 億美元的 AI 資料中心計畫提供融資而情緒高昂，但隨著中國傳出自製 DUV 曝光機正式量產，市場擔憂全球半導體設備競爭格局恐將改寫，設備族群全面遭到拋售。
中國首度量產浸潤式 DUV 曝光機 艾司摩爾市場地位受挑戰
根據《The Information》報導，一家位於上海、具有官方背景的半導體設備公司，已成功量產國產浸潤式深紫外光（Immersion DUV）曝光機，象徵中國在半導體設備自主化上取得重大突破。
報導指出，該公司整合多家中國本土企業的研發團隊，包括國有背景的新創公司上海御量晟科技（Shanghai Yuliangsheng Technology），共同完成浸潤式 DUV 設備開發，成功跨越被視為全球半導體製造最困難的技術門檻之一。
消息曝光後，全球曝光機龍頭艾司摩爾（ASML）早盤逾 2% 的漲幅迅速消失，股價翻黑，也拖累美國半導體設備三雄同步走弱，艾司摩爾大跌近 6％，應用材料（Applied Materials，AMAT）、科磊（KLA，KLAC）皆下跌逾 3％，科林研發（Lam Research，LRCX）下挫約 4.5％。
美國擬限制 DUV 出口 中國提前突破恐削弱制裁效果
此次技術突破的時間點，也格外敏感。目前美國國會正推動《MATCH Act》法案，計畫進一步限制中國取得或維修浸潤式 DUV 曝光設備，希望藉此延緩中國先進晶片製造能力發展。
然而，若中國本土設備已具備量產能力，代表即使未來西方全面封鎖 DUV 設備出口，也可能難以達到預期效果。
市場因此開始重新評估，美國及荷蘭多年來對中國半導體出口管制是否反而促使中國加快自主研發腳步。
中國若突破曝光機技術 整條設備供應鏈恐面臨挑戰
市場此次拋售設備股的核心邏輯，在於曝光機長期被視為全球半導體設備中最難突破的技術瓶頸。
由於美國與荷蘭早已禁止艾司摩爾向中國出售最先進的 EUV（極紫外光）曝光機，中國晶圓廠近年大量採購艾司摩爾較成熟的浸潤式 DUV 設備，使中國市場成為艾司摩爾重要營收來源之一。
若中國本土 DUV 設備逐漸成熟，未來中國晶圓廠將可能降低對艾司摩爾的依賴，直接衝擊其在中國市場的市占率與營收。
此外，市場也擔憂，若中國已能攻克最困難的曝光機技術，其餘半導體設備也可能逐步實現國產化，包括應用材料的薄膜沉積設備、科林研發的蝕刻設備、科磊的晶圓檢測與量測設備。
投資人憂心，未來中國設備商將逐步取代西方供應商，進一步侵蝕全球半導體設備市場。
出口管制恐適得其反 市場重新評估中國半導體崛起速度
分析人士指出，西方國家原本希望透過出口管制，限制中國停留在成熟製程，減緩其先進晶片發展。然而，市場如今開始認為，相關限制反而促使中國投入更多資源發展自主設備與技術，加速建立完整的本土半導體供應鏈。
對全球半導體設備業而言，最不利的情境在於西方設備商逐漸失去中國這個全球最大半導體市場之一，以及中國自主技術仍持續快速進步，未能達到出口管制原本抑制技術發展的戰略目標。
投信：中國政策可能影響艾司摩爾 但不至於傷害台灣產業
「中國規劃國產半導體設備量產，是眾所皆知的事情。」施羅德投信台股基金經理人柯鴻旼指出，中國自製 DUV 曝光機主要就是供應當地相關產業鏈的業者，至於其他國家的業者是否跟進採用，就不一定。
至於中國的長線「國產替代」政策是否撼動艾司摩爾的地位，柯鴻旼認為，確實不無可能，但當艾司摩爾決定調漲 EUV 及 DUV 價格時，台灣的晶圓代工業者甚至會設法抵制，以此來看，即便艾司摩爾面臨來自中國業者的激烈競爭，估計也不會對台灣產業界帶來太大的衝擊。
在 AI 需求持續推升全球晶片市場之際，中國設備自主化進展，正成為全球半導體設備產業新的重大變數，也使艾司摩爾、應用材料、科林研發及科磊等國際設備大廠未來在中國市場的成長前景面臨更大挑戰。
