艾司摩爾醞釀新一波設備漲價、傳 DUV 至少調升 10% 台積電大力抵制
Celine
AI 晶片需求火熱 艾司摩爾擬調高曝光機售價
全球 AI 晶片需求持續攀升，帶動半導體設備市場熱度不減。市場消息指出，全球曝光機龍頭艾司摩爾（ASML）正規劃調高晶片製造設備價格，並已與包括台積電（2330）在內的主要客戶展開協商。其中，深紫外光（DUV）曝光設備擬調漲至少 10%，極紫外光（EUV）設備也可能跟進調整，引發市場高度關注。
不過，知情人士透露，身為艾司摩爾最大客戶之一的台積電，對 EUV 與 DUV 設備同步漲價持保留態度，目前正積極與艾司摩爾協商，希望降低設備採購成本，雙方價格攻防戰成為半導體產業焦點。
中國客戶部分接受新報價 台積電仍堅持協商
根據外媒報導，艾司摩爾近幾週已通知包括中國晶圓廠在內的多家客戶，計畫調高 DUV 設備售價，漲幅至少 10%。部分中國晶片製造商已接受新價格，但台積電對於 EUV 與 DUV 設備同步調漲仍持反對立場，希望維持既有採購條件，以降低龐大的資本支出壓力。
由於艾司摩爾是全球唯一能量產 EUV 曝光設備的供應商，在先進製程領域幾乎沒有競爭對手，因此設備價格調整將直接影響全球晶圓代工與記憶體廠商的資本支出規劃。
最先進 EUV 售價衝 4 億美元 AI 投資帶動設備需求
在 AI、高效能運算（HPC）及先進製程持續推進下，艾司摩爾的設備需求維持強勁。目前，高階 DUV 曝光機售價約 9000 萬美元，上一代 EUV 設備約 2.2 億美元，而最新 High-NA EUV 曝光機售價最高已達 4 億美元，任何價格調整都將牽動全球半導體產業的投資成本。
RBC Capital Markets 分析師指出，受惠 AI 需求持續爆發，台積電、三星電子與 SK 海力士等主要客戶營運表現強勁，使目前市場環境已具備設備漲價條件，也讓艾司摩爾擁有更大的議價空間。
艾司摩爾二度上修全年財測 Low-NA EUV 仍有漲價空間
日前艾司摩爾公布最新財報時，再度上調 2026 年全年財測，預估全年淨銷售額將達 430 億至 450 億歐元，高於市場預期，並宣布將持續擴充 EUV 與 DUV 設備產能，以因應 AI 晶片市場持續成長的需求。
艾司摩爾財務長 Roger Dassen 在法說會上表示，公司持續提升 Low-NA EUV 設備的生產效率，因此未來仍具備進一步調高售價的空間。不過，由於曝光機交付週期長，即使價格調整，也不會立即反映於市場交易價格。
英特爾率先導入 High-NA EUV 新世代製程邁向商業化
除了調整價格策略外，艾司摩爾也透露，英特爾已開始採用最新 High-NA EUV 曝光設備投入晶片生產。執行長 Christophe Fouquet 表示，這代表 High-NA EUV 已正式具備商業量產能力，將加速下一代 2 奈米以下先進製程發展。
隨著全球 AI 晶片需求持續升溫，加上台積電、三星、英特爾等晶圓大廠積極擴產，市場預期未來艾司摩爾幾年設備出貨仍將維持高檔，而此次設備漲價若順利推動，也可望進一步提升公司的獲利能力，同時為全球半導體供應鏈帶來新一波成本調整壓力。
