艾司摩爾（ASML）傳出 2028 年 EUV 年產擴增至逾 110 台
Celine
2027 年產能近乎售罄 組裝速度成擴產關鍵
半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）傳出正評估提高極紫外光（EUV）微影設備產能，目標在 2028 年生產逾 110 台。根據路透報導及摩根大通分析師與艾司摩爾財務長羅傑・達森（Roger Dassen）會面後的說法，2027 年艾司摩爾 EUV 產能幾乎已被訂滿，當年預計至少可生產 80 台；若 2028 年產量超過 110 台，比 2027 年最低產量增加至少 37.5%。
分析指出，目前艾司摩爾的主要瓶頸已從關鍵零組件供應，轉向設備組裝速度。公司正尋求透過改善製造與組裝流程，進一步釋出產能。
AI 晶片需求帶動訂單 台積電、三星等擴大先進製程布局
EUV 設備是生產先進晶片的重要工具，單台價格約 2 億美元。隨著 AI 晶片需求增加，台積電（2330）、三星、SK 海力士及英特爾等業者持續擴充先進晶片產能，帶動設備需求。
艾司摩爾也已在荷蘭艾恩德霍芬興建新廠區，規劃加快設備組裝，未來可容納最多約 2 萬名員工。不過，路透指出，新廠第一階段預計要到 2029 年才完成，因此短期產能提升仍須仰賴既有設施的效率改善。
第二季營收達 93 億歐元 全年營收展望上調
艾司摩爾第二季營收達 93 億歐元，毛利率為 54%。公司並將全年營收展望上調至 430 億至 450 億歐元，毛利率目標為 54% 至 56%。
若 EUV 設備產量由 2027 年的至少 80 台提升至 2028 年逾 110 台，艾司摩爾將有機會透過增加出貨量，進一步挹注營收。除了現有 EUV 設備，客戶也逐步規劃導入下一代高數值孔徑（High-NA）EUV 系統，單台價格約 4 億美元，可印製較現有 EUV 設備小約 40% 的特徵尺寸。
高估值反映成長期待 AI 資本支出與執行進度仍待觀察
不過，市場對艾司摩爾成長前景已有相當期待。文中資料顯示，股價為 1591 美元，GuruFocus 估算的 GF Value 約為 1260 美元，股價高出該估值約 30%；路透則指出，艾司摩爾股價截至 2026 年 7 月已上漲約六成，當時約為 2027 年預估獲利的 38 倍。
至於後續風險，包括 AI 基礎建設投資是否持續、設備擴產能否如期推進，以及地緣政治與出口管制對市場的影響。艾司摩爾預期中國市場約占 2026 年營收兩成，美國若進一步限制相關銷售或服務，可能影響其可服務市場。
整體而言，艾司摩爾評估提高 EUV 產量，反映 AI 相關設備需求與產能預訂情況仍具支撐；但實際成長幅度，仍取決於組裝效率、客戶資本支出及出口限制等因素。
