美國質疑艾司摩爾（ASML）EUV 設備流入中國　川普政府恐再收緊晶片出口管制

發佈時間：2026/06/23

美國商務部提出疑慮　憂心 EUV 疑似流入中國　

荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾（ASML Holding，ASML）再度捲入美中科技戰。根據《彭博》報導，美國商務部長霍華德．盧特尼克（Howard Lutnick）近期與美中科技戰高層會晤時，對一台極紫外光（EUV）曝光機可能流入中國表達關切，質疑是否違反美國主導的出口管制措施。

EUV 設備是製造最先進晶片的關鍵工具，目前廣泛應用於輝達（NVDA）、蘋果（AAPL）及台積電（2330）等客戶的高階晶片生產。

面對美方質疑，艾司摩爾迅速反駁，強調公司從未向中國出售任何 EUV 設備，也未出口專門為 EUV 系統設計的零組件、模組或運輸設備。

艾司摩爾表示：「任何指稱艾司摩爾蓄意違反荷蘭、美國或其他政府協議的說法，不僅與事實不符，也具有誤導性。」

公司指出，EUV 設備重達約 180 噸，體積相當於一輛校車，而且必須持續接受艾司摩爾工程師的維護，客戶不可能自行拆卸、搬運或重新部署。

根據艾司摩爾內部提交給美國政府的文件，目前全球共有 314 台 EUV 設備投入運作，另有 26 台已除役，而中國境內並沒有任何一台 EUV 系統。

艾司摩爾並表示，透過遠端監控系統，公司能夠即時偵測設備異常、斷線或位置變化。

《彭博》引述多位川普政府高層官員指出，美方握有艾司摩爾向中國出口與 EUV 設備相關特殊運輸裝置及零組件的證據，但因涉及敏感情報來源，不願公開相關資料。

然而，這些官員同時拒絕說明是否掌握中國境內實際存在 EUV 設備的證據，也未透露為何美國政府至今未對艾司摩爾採取進一步制裁或法律行動。

市場人士指出，目前爭議焦點不僅是一台設備是否流入中國，更涉及是否在整體出口管制上「未充分配合美國國安政策」。

中國 AI 晶片龍頭華為（Huawei）長期受制於無法取得 EUV 設備，成為其挑戰輝達的重要瓶頸。

雖然華為近期宣稱可透過其他技術路徑製造先進晶片，但業界普遍認為，缺乏 EUV 設備仍是中國半導體產業邁向更先進製程的最大障礙。

彭博情報（Bloomberg Intelligence）分析指出，即使中國取得部分設備零件，要生產先進晶片仍需其他受出口限制的關鍵設備配合，因此美方擔憂可能反映中國工程技術進步，而非艾司摩爾違規。

近年來，美國持續要求荷蘭與日本同步收緊半導體設備出口限制，但雙方在設備維修與售後服務方面始終未完全配合華府立場。

美國設備商科磊（KLA）、應用材料（AMAT）與科林研發（LRCX）也曾抱怨，外國競爭對手較寬鬆的限制使美國企業處於不利地位。

今年稍早，美國國會跨黨派提出新法案，要求對艾司摩爾及日本東京威力科創（Tokyo Electron）實施與美國企業相同等級的限制，並考慮全面禁止艾司摩爾向中國出口浸潤式深紫外光（DUV）設備。若法案通過，將進一步衝擊艾司摩爾在中國市場的布局。

艾司摩爾預估，2026 年約 20% 的營收將來自中國市場，若高階 DUV 設備遭全面禁止，對公司營運恐帶來重大影響。

報導指出，川普政府內部對半導體設備出口政策尚未形成一致立場。川普團隊曾考慮全面切斷艾司摩爾對中國的供貨，但之後與荷蘭、日本的協商轉向聚焦設備維修服務限制，目前尚未達成實質成果。

另一方面，美國駐荷蘭大使 Joe Popolo 近日表示，若美歐能達成新的貿易協議，將有助於降低國會推動相關法案的壓力。

分析人士指出，艾司摩爾為全球唯一 EUV 設備供應商，不僅是 AI 晶片熱潮的核心受益者，也已成為美中科技戰與地緣政治角力的關鍵節點。未來若華府進一步加強出口管制，不僅可能影響艾司摩爾的中國營收，也可能牽動全球半導體設備供應鏈與台積電、輝達、蘋果等先進晶片生態系的發展。

編輯整理：Celine