半導體研磨概念股

CMP 製程以研磨墊、研磨液及鑽石修整碟共同控制平坦度、去除率與缺陷,是最貼近晶圓投片量的消耗型環節。中砂的 Diamond Disk 在 2 奈米與更先進節點市占率約達 8 成,頌勝半導體研磨墊與耗材營收比重已達約 66%,兩者因先進製程 CMP 道數上升及先進封裝放量而屬受惠最高。英特格、Qnity 與 Fujimi 則憑研磨墊、研磨液、過濾或清潔材料平台取得受惠高評價。應持續觀察 2 奈米/A16 投片、Soft Pad 認證、客戶導入速度與產能利用率;主要風險是耗材認證期長、國際龍頭競爭及新產線未如期放量。
  • 台股 1560
    中砂
    受惠最高
    1. 1. 中砂的 CMP Diamond Disk 用於原位修整研磨墊,製程越先進、CMP 道數與耗材磨耗越高,直接放大單片晶圓的鑽石碟消耗量。
    2. 2. 公司 2Q26 鑽石碟營收 7.83 億元、年增 26.1%,其中 2 奈米產品營收大增 84%,且已開始出貨 1.4 奈米,先進節點放量已轉化為實際業績。
    3. 3. 中砂在 2 奈米及 1.4 奈米鑽石碟市占約 8 成,明顯高於 2024 年全球整體約 35%;高市占搭配 2026 年底月產能擴至 7 萬顆,有利承接先進製程擴產。
    4. 4. 公司半導體相關營收約占 2025 年總營收 80%,但鑽石碟仍依賴少數晶圓廠先進節點與先進封裝投片;若新節點量產遞延,產能擴充與獲利成長可能落後。
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  • 台股 7768
    頌勝科技
    受惠最高
    1. 1. 半導體研磨墊與耗材營收占比已由 2023 年 48% 升至 2026Q2 的 66%,2026H1 半導體產品營收年增 25%;2 奈米、晶背供電與 CoWoS 製程道數增加,直接放大 CMP 耗材用量。
    2. 2. 旗下智勝具備 PU 配方、RIM 成型、溝槽與複合材料技術,並在台、美、中累積 142 項專利;2026Q2 量產品 212 件,長期客製化驗證提高研磨墊替換門檻與客戶黏著度。
    3. 3. Soft Pad 新產線已於 2026Q3 試產認證,預計 Q4 量產,且已通過重要指標客戶認證;產品若順利放量,可切入日系供應商主導的高階拋光墊市場,形成第二成長曲線。
    4. 4. 現有半導體產能已滿載,合肥廠預計 2026Q4 送樣、2027 年貢獻營收,中科廠則延至 2027Q3 試產;受惠具高度直接性,但實際增長仍取決於新廠開出與客戶認證時程。
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  • 美股 ENTG
    Entegris Inc
    受惠高
    1. 1. 英特格 Materials Solutions 明確供應 CMP 研磨液、研磨墊及 post-CMP 清潔材料;2 奈米、GAA 與 HBM 製程複雜度提高,將推升單片晶圓耗材用量與材料內容價值。
    2. 2. 英特格同時具備 CMP 材料與 APS 高純度過濾、純化及污染控制方案,可跨研磨與液體潔淨模組協同供貨;先進節點對缺陷與微粒控制更嚴格,有利提高客戶黏著度及導入壁壘。
    3. 3. 2026 年第 3 季營收 10.06 億美元、年增 24.6%,調整後 EBITDA 利潤率 30.2%;公司第 4 季營收指引中位數 10.4 億美元,顯示先進製程材料需求正轉化為近期業績動能。
    4. 4. 受惠並非只來自 CMP,英特格產品涵蓋沉積、蝕刻、過濾等多項材料,且公司仍承受半導體週期、客戶集中、出口管制與高負債風險;因此 CMP 題材對獲利的實際貢獻仍須觀察分部揭露。
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  • 美股 Q
    Qnity Electronics, Inc.
    受惠高
    1. 1. Qnity 半導體事業直接供應 CMP 研磨墊、研磨液與清潔材料,CMP 營收已占半導體事業逾 50%;製程道數增加將推升單片耗材用量與營收。
    2. 2. 2026 年第 2 季半導體事業營收 7.44 億美元、年增 17%,先進節點業務成長逾 20%;3 奈米放量、2 奈米導入及 HBM 擴產提高其 CMP 內容價值。
    3. 3. Optivision Max 軟質研磨墊已在先進節點與 AI、HBM 封裝應用獲採用,並於 16 奈米及 14 奈米取得多項 POR,有助把新產品認證轉為長期耗材出貨。
    4. 4. Qnity 採 local-for-local 製造與技術支援,且逾 90% 營收來自製程耗材或隨設備、產品用量驅動的業務;但仍須留意客戶驗證、約 40 億美元債務及先進封裝放量時程。
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  • 日股 5384
    Fujimi
    受惠高
    1. 1. Fujimi 的 CMP 研磨產品 FY2026 營收達 361.35 億日圓,年增 17.9%;AI 先進邏輯與記憶體需求推升晶圓平坦化及單片耗材用量,直接轉化為營收成長。
    2. 2. 公司在半導體裝置 CMP 產品具全球約 1 成市占,並以研磨材料技術累積客戶信任;2 奈米、GAA 與 HBM 製程複雜度提高,有利高階研磨液持續導入。
    3. 3. Fujimi 預估 FY2027 CMP 營收達 413 億日圓、年增 14.3%,且預期開始取得後段 CMP 採用;各務山、台灣與美國據點擴產,將支援先進製程及先進封裝放量。
    4. 4. 新中長期計畫把 CMP 營收目標由 FY2027 的 461 億日圓提高至 FY2032 的 858 億日圓,六年資本支出規劃 1,300 億日圓;但新廠折舊與半導體營收占比逾 8 成,也會放大執行及景氣循環風險。
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此環節供應 CMP、晶圓背磨、薄化、切割、拋光及量測整合設備,直接服務晶圓廠與封測廠的擴產。DISCO 在晶圓減薄、切割與拋光設備具高度市占,HBM 堆疊、CoWoS 與混合鍵結對超薄晶圓的需求,使其設備與砂輪耗材形成雙重收入,屬受惠最高。荏原製作所、應用材料及東京精密掌握 CMP、研磨或量測整合技術,受惠高,但設備認列較受資本支出與驗收時程影響。觀察指標包括先進封裝設備接單、交期、出貨額、客戶擴廠進度及耗材附掛率;風險在於記憶體景氣反轉、客戶遞延資本支出與出口管制。
  • 日股 6146
    DISCO
    受惠最高
    1. 1. DISCO 提供晶圓背磨、切割、拋光設備及砂輪、刀片等耗材,直接對應 HBM、CoWoS 與 3D 堆疊的超薄晶圓需求;晶粒越薄,研磨與低損傷加工價值越高。
    2. 2. 公司在晶圓切割、減薄與拋光設備具約 70%~80% 市占,並以裝置、耗材、加工條件與服務整合形成高進入門檻;客戶為維持良率,切換供應商需重新驗證。
    3. 3. 2026 年第 2 季出貨額達 1,486 億日圓、創歷史新高,營收 1,427.5 億日圓、年增 36.4%;生成式 AI、先進邏輯與 HBM 拉動研磨機及切割機出貨。
    4. 4. 設備安裝後可持續銷售鑽石刀片、研磨輪等精密加工工具,並受客戶稼動率帶動;但設備營收仍受驗收時程與半導體資本支出循環影響,季度波動可能放大。
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  • 日股 6361
    荏原製作所
    受惠高
    1. 1. 荏原精密・電子事業直接提供 CMP 設備,2025 年 CMP 營收達 2,126 億日圓;2 奈米、GAA、HBM 與先進封裝增加平坦化道數,推升設備接單與服務收入。
    2. 2. 公司 CMP 全球市占約 30%,並以乾式真空幫浦、CMP 與封裝鍍膜建立整合方案;高精度研磨與污染控制能力提高客戶導入門檻,有利擴大先進製程市占。
    3. 3. 2026 年上半年精密機械訂單年增 89.3%、營收年增 22.0%、事業利益年增 38.7%,AI 需求帶動邏輯與記憶體投資,顯示 CMP 擴產已轉化為實際業績。
    4. 4. 熊本 CMP 生產棟與藤澤研發棟已啟用,公司預計現有產能可支應至 2030 年;但 CMP 設備認列受交期、驗收及出口管制影響,短期營收可能遞延。
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  • 美股 AMAT
    應用材料
    受惠高
    1. 1. 應用材料的 Semiconductor Systems 涵蓋 CMP,並推出專為先進封裝設計的 Opta Quad CMP,可即時監控研磨與厚度均勻性,直接受惠 HBM、混合鍵結及 CoWoS 擴產。
    2. 2. 公司預期 2026 年先進封裝營收成長逾 70%,且 DRAM、HBM 與先進邏輯是主要 WFE 成長來源;封裝複雜度提高將同步拉升 CMP、量測與製程控制設備價值。
    3. 3. 2026 財年第三季營收 91.15 億美元、年增 25%,非 GAAP 毛利率 50.4%;公司計畫 2028 年前倍增季度系統產能,支撐晶圓廠擴產設備出貨。
    4. 4. 應材客戶已公布逾 10 個新晶圓廠專案,部分需求預測延伸至 2030 年;但中國出口管制與設備資本支出週期,仍可能造成 CMP 設備交付或營收認列延遲。
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  • 日股 7729
    東京精密
    受惠高
    1. 1. 東京精密提供晶圓研磨、拋光與切割設備,直接對應 HBM、CoWoS 及 3D 堆疊的薄化需求;AI 封裝越複雜,研磨設備內容價值越高。
    2. 2. 2026 年 3 月期半導體製造裝置營收達 1,278.78 億日圓、年增 12.7%,受 HBM 探針機與 AI 封裝研磨機詢單支撐,顯示需求已轉化為業績。
    3. 3. 2027 年 3 月期第 1 季半導體設備接單年增 102% 至 532 億日圓,名古屋研磨機工廠維持高稼動且交期逾 6 個月,有利後續出貨與產能擴張。
    4. 4. 公司具備研磨、切割與量測整合能力,可提高薄晶圓厚度均勻性與良率;但 Hybrid Bonding 量產預計至 2028 年加速,相關設備放量仍有遞延風險。
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先進製程與封裝擴產會增加監控片、測試片、再生晶圓,以及晶圓薄化後的清洗、量測與封裝加工需求,形成研磨題材的需求外溢。昇陽半導體為再生晶圓 Tier-1 供應商,受惠 2 奈米、A16 與晶背供電提高測試及監控晶圓用量,屬受惠高;辛耘與均豪透過再生晶圓、清洗、研磨拋光及檢測設備取得受惠中等評價。日月光投控則因先進封裝稼動率提高而間接受惠。應追蹤再生晶圓月產能、稼動率、先進封裝接單及客戶投片節奏;若晶圓廠利用率下滑,服務型業務的營運槓桿也會反向放大。
  • 台股 8028
    昇陽半導體
    受惠高
    1. 1. 昇陽半是再生晶圓 Tier-1 供應商;公司資料顯示 N2 每片主片用量約 3.15 片、1.4 奈米達 4 片,製程複雜化將放大監控片與研磨再生需求。
    2. 2. 再生晶圓約占昇陽半營收 85%,2026 年第 2 季營收 14.27 億元、年增 36.68%,毛利率 37.9%;先進製程放量可透過高階產品組合推升獲利。
    3. 3. 公司規劃 2026 年月產能擴至 120 萬片,並以研磨、乾式拋光等製程提高效率;但近期受機台瓶頸影響,產能可能僅達 110~120 萬片,須追蹤擴產與稼動率。
    4. 4. AI 伺服器推升 Power DrMOS 薄化需求,昇陽半預估 2025~2028 年薄化業務營收 CAGR 達 45%;50~32 微米加工可延伸先進封裝研磨題材,但仍受客戶驗證進度制約。
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  • 台股 3583
    辛耘
    受惠中
    1. 1. 辛耘自製濕製程設備涵蓋清洗、蝕刻、暫時鍵合/解鍵合與烘烤,可支援 CoWoS、SoIC、WMCM 等先進封裝的薄化與表面處理,先進封裝擴產將推升設備需求。
    2. 2. 辛耘 12 吋再生晶圓月產能已由 16 萬片增至 21 萬片,預計 2026 年底達 25 萬片;先進製程投片增加監控片與測試片需求,帶動再生晶圓業務成長。
    3. 3. 2026 年上半年自製裝置與晶圓再生等製造業務占營收 52%,毛利率 37%;自製設備營收預估年增約 50%,產品組合改善有助放大先進封裝需求的獲利貢獻。
    4. 4. 自製設備訂單能見度已延伸至 2028 年,湖口二廠預計 2026 年底啟用、台南廠預計 2028 年第一季投產;但人力短缺與客戶驗證進度,可能限制擴產轉化速度。
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  • 台股 5443
    均豪
    受惠中
    1. 1. 均豪以「檢量、磨拋」為核心,提供晶圓再生的 CMP 研磨、拋光與 AOI 量測設備;先進製程監控片增加,可帶動設備出貨與再生晶圓產線投資。
    2. 2. 2026 年上半年半導體業務占母公司營收 62%,下半年已訂未銷訂單中先進封裝占 68%、晶圓再生占 20%,顯示研磨與檢測需求已轉化為具體訂單。
    3. 3. Carrier AOI、白光量測與磨拋設備已布局 CoWoS、2.5D/3D IC 及 Fan-Out;隨 RDL 線寬、膜厚與平坦度要求提高,均豪可從製程檢查延伸至低損傷薄化設備。
    4. 4. 公司表示下半年接單金額預估至少為上半年 1 倍,部分訂單已排至 2027 年;但設備交期與客戶資本支出若遞延,營收認列及營運槓桿仍可能延後。
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  • 台股 3711
    日月光投控
    受惠中
    1. 1. 日月光投控 3Q26 半導體封測營收 1,514.85 億元、年增 51%,ATM 毛利率達 30.6%;先進封裝放量將外溢帶動晶圓薄化、平坦化與清洗需求。
    2. 2. 公司先進封裝 LEAP 產能接近滿載,2026 年設備資本支出達 21.04 億美元;擴產提高 CoWoS、Chiplet 等製程稼動,間接增加研磨與量測服務需求。
    3. 3. 日月光投控目標 2027 年 LEAP 營收翻倍,且 3Q26 封裝、測試營收分別年增 51% 與 42%;封裝複雜度提升有利研磨供應鏈,但受惠仍取決於產能開出與稼動率。
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