半導體研磨概念股

此類涵蓋 CMP 研磨墊、研磨液、鑽石碟、砂輪與高階材料通路,是半導體研磨題材中最直接的耗材受惠層。中砂在台積電先進製程鑽石碟具高市占,且 2 奈米、A16 晶背供電會推升 CMP 道數與鑽石碟負荷;頌勝科技為台灣少數量產 CMP 研磨墊並切入半導體供應鏈的廠商,Soft Pad 送樣與量產進度是重要催化。Entegris、Qnity、Fujimi 掌握國際研磨液與研磨墊技術,受惠於先進節點、HBM 與混合鍵結的低缺陷需求;華立、崇越則以代理高階研磨液與材料通路參與,受惠程度取決於代理線、客戶拉貨與本地化供應比重。
  • 台股 1560
    中砂
    受惠最高
    1. 1. 中砂鑽石碟已切入台積電 3 奈米約 7 成、2 奈米上看 8 成供應鏈,A16 晶背供電讓 CMP 道數再升,單片耗材用量與 ASP 同步墊高。
    2. 2. 公司半導體營收占比約 77%~80%,DBU 2026 年月產能增至 6 萬顆以上,SBU 12 吋再生晶圓朝 40 萬片推進,直接吃到先進製程擴產紅利。
    3. 3. A16、HBM 與 CoWoS / SoIC 推升晶圓薄化和平坦化需求,中砂同時具鑽石碟、研磨砂輪與再生晶圓三條產品線,受惠範圍最完整。
    4. 4. 1Q26 營收 22.93 億元、年增 29.4%,毛利率升至 35%,DBU 與 SBU 同步成長,顯示先進節點放量已實際反映在營運。
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  • 台股 7768
    頌勝科技
    受惠最高
    1. 1. 半導體研磨墊營收占比已逾 6 成,直接吃到 2 奈米、晶背供電與 CoWoS / SoIC 帶動的 CMP 平坦化需求,單片耗材用量隨製程道數上升而放大。
    2. 2. 智勝科技為台灣首家量產 CMP 研磨墊廠,採 RIM 專利與客製化配方卡位高門檻供應鏈,台積電與封測廠導入後替換成本高,市占有機會持續擴張。
    3. 3. Soft Pad 專線已建置,預計 2026 年第 2 季試產認證、第 3 季逐步量產,鎖定日系壟斷的高階拋光墊與 CoWoS-L,若放量可形成第二成長曲線。
    4. 4. 中科與合肥雙基地擴產、現階段產能已滿載,管理層預期未來 3-5 年產能可 double 再 double;在地化第二供應源需求升溫,接單與交期優勢明顯。
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  • 美股 ENTG
    Entegris Inc
    受惠高
    1. 1. Materials Solutions 直接供應 CMP 研磨液、研磨墊與 post-CMP 清潔材料,2 奈米與 HBM 擴產會拉高每片晶圓耗材用量,營收具明確成長彈性。
    2. 2. 約 75% 營收屬晶圓消耗型,先進邏輯與記憶體節點升級帶動 content per wafer 提升,AI 需求越強,耗材與高純度過濾出貨越放量。
    3. 3. 在台灣與亞洲擁有在地製造、研發與服務據點,更容易切入台積電等先進製程客戶的在地化採購與新節點認證,縮短導入週期。
    4. 4. 併購 CMC Materials 後成為全球 CMP 材料龍頭級供應商之一,產品線涵蓋氧化層、銅製程到先進封裝,對高階製程覆蓋最完整。
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  • 美股 Q
    Qnity Electronics, Inc.
    受惠高
    1. 1. Qnity 研磨墊、研磨液與 post-CMP 清潔材料直接卡位 2 奈米、GAA 與 3D 堆疊,先進節點 CMP 道數增加會同步放大單片耗材用量。
    2. 2. 公司約 2/3 產品直接連結半導體,2026 年 Q1 營收 13 億美元、年增 18%;先進邏輯與 HBM 帶動的半導體部門成長最強。
    3. 3. 已與 SK hynix 簽長約供應 CMP pad,並推出 Emblem 新平台,強化 HBM 與 AI 封裝客製化能力,認證後黏著度與續約能見度高。
    4. 4. 2027 年台灣新據點將上線,搭配 local-for-local 擴產與供應鏈在地化,有助縮短導入週期、提高在先進製程材料的滲透率。
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  • 日股 5384
    Fujimi
    受惠高
    1. 1. Fujimi 主力是 CMP 研磨液,2026 財年 CMP 產品營收達 361.35 億日圓、年增 17.9%,AI 與 2 奈米放量直接推升每片晶圓耗材用量。
    2. 2. 公司在前段製程 CMP 研磨液具全球領先地位,FEOL 市占接近 60%,且最大客戶為台積電,占營收約 16%,先進節點導入後黏著度高。
    3. 3. 2026 財年合併營收 694.04 億日圓、年增 11%,營業利益年增 17.4%;並規劃日本、美國、台灣合計投資約 150 億日圓擴產,迎接需求續增。
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  • 台股 3010
    華立
    受惠中
    1. 1. 代理 JSR、Fujimi 等國際大廠的 CMP 研磨液與先進材料,直接供應台積電 2 奈米與 CoWoS 產線;製程道數增加,單片耗材用量與營收同步放大。
    2. 2. 與 JSR 在新竹設立先進平坦化研究中心,並參與台灣合資量產布局,可就近支援驗證與交期,搶食在地化替代與第二供應源需求。
    3. 3. 2026 年 Q1 半導體營收 75.81 億元、年增 38.11%,前五個月半導體營收占比升至 35%;AI 與 HPC 擴產已實際轉成出貨動能。
    4. 4. 除研磨液外,也切入光阻、先進封裝材料與高階載板乾膜,能跟著台積電 N2、CoWoS、FOPLP 擴產擴大材料組合與客戶黏著度。
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  • 台股 5434
    崇越
    受惠中
    1. 1. 崇越長期代理信越、Fujimi 等日系高階材料,涵蓋 CMP 研磨液、光阻液與石英零組件,直接吃到台積電 2 奈米、A16 擴產帶來的耗材放量。
    2. 2. 半導體材料營收占比已達 84%~87%,2025 年營收 675.8 億元、年增 8.6%,2026 年前段製程材料需求續增,CMP 相關出貨同步推高整體營運。
    3. 3. 台灣、中國、日本、美國與東南亞據點完整,可提供在地備貨、技術支援與第二供應源服務,符合晶圓廠供應鏈去風險化與在地化採購趨勢。
    4. 4. 除前段 CMP 耗材外,還切入 CoWoS/先進封裝的 Underfill、MUF、TIM 與 TBDB,AI 伺服器與 HBM 擴產可同步放大第二成長曲線。
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設備層包括 CMP 機台、晶圓背磨機、切割機、拋光機、量測整合與濕製程設備。DISCO 在晶圓減薄、切割與拋光設備具領先地位,是 HBM、3D IC 與 CoWoS 量產的設備端核心受惠者;Ebara 與應用材料掌握 CMP 設備,東京精密則受惠研磨與量測整合。台廠均豪、辛耘切入再生晶圓、CMP / 清洗與先進封裝相關設備,屬於外溢成長。此類 benefit_level 需看資本支出週期、機台認證、交期與客戶擴產節奏,若晶圓廠或 OSAT 擴產遞延,設備股波動通常高於耗材股。
  • 日股 6146
    迪思科
    受惠最高
    1. 1. DISCO 在晶圓減薄、切割與拋光設備市占約 70%~80%,直接卡位 HBM、3D IC 與 CoWoS 量產瓶頸;AI 晶片越放量,後段薄化與切割需求越強。
    2. 2. HBM3E / HBM4 與 2.5D / 3D 堆疊把晶粒厚度壓到 30~50 微米,DISCO 的研磨機、雷射切割與 Stealth Dicing 正是超薄晶圓量產必備工具。
    3. 3. 2026 會計年度出貨額年增 10.3% 至 4,428 億日圓,營收年增 11.1%,已連 6 年創新高;1Q27 財測出貨額再增 18.8%,反映 AI/HBM 訂單續強。
    4. 4. DISCO 兼具設備與砂輪、BG Tape 等耗材綁定,客戶設備稼動率越高,消耗品出貨越穩;先進封裝從 CoWoS 走向 Hybrid Bonding 也持續墊高高精度加工門檻。
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  • 日股 6361
    Ebara
    受惠高
    1. 1. Ebara 的 CMP 設備直接吃到 2 奈米、GAA 與先進封裝帶動的平坦化道數增加,精密機械事業是半導體成長主軸,市占約 30% 居全球第二。
    2. 2. AI 與 HBM 擴產推升晶圓薄化、Hybrid Bonding 與 CoWoS 需求,Ebara 具 CMP、拋光與乾式真空幫浦整合優勢,可一站式切入台積電與亞洲晶圓廠新案。
    3. 3. 2026 年 Q1 訂單年增 62.6%,熊本 CMP 產線與藤澤研發中心已到位,顯示先進製程與先進封裝擴產已實際反映到接單與產能布局。
    4. 4. CMP 需求高度依賴客戶認證與機台黏著度,一旦導入切換成本高;Ebara 受惠於在地服務與長約維護收入,能把先進封裝擴產轉成較穩定的後續營收。
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  • 美股 AMAT
    應用材料
    受惠高
    1. 1. Semiconductor Systems 涵蓋 CMP、沉積、蝕刻與量測整合,2 奈米、GAA 與 HBM 擴產拉高平坦化步驟數,直接推升設備出貨與耗材拉動。
    2. 2. AI 與先進封裝帶動 CoWoS、SoIC、Hybrid Bonding 擴產,應材在 leading-edge logic、DRAM 與 advanced packaging 都是核心供應商,2026 年設備業務看增逾 30%。
    3. 3. 2026 財報第二季營收 79.1 億美元、年增 11%,毛利率站上 50% 左右創 25 年新高,顯示高單價設備與服務組合持續優化,景氣回升已反映在獲利。
    4. 4. 公司與台積電、SK hynix、美光在 EPIC Center 深化合作,並併購 NEXX 強化先進封裝布局,訂單能見度已延伸到 2027 年,成長動能更長線。
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  • 日股 7729
    東京精密
    受惠高
    1. 1. 東京精密半導體製造裝置涵蓋晶圓針測、研磨與切割,直接吃到 HBM、2.5D / 3D 堆疊與晶圓薄化需求,AI 先進封裝讓平坦化步驟明顯增加。
    2. 2. CMP 與研磨量測整合是核心優勢,能把表面粗糙度、厚度量測與加工設備打包供應,較單機廠更容易切入先進製程客戶,黏著度與毛利率較高。
    3. 3. 2025 財年半導體設備營收年增 13%、接單年增 15%,Q4 接單年增 39%,顯示 HPC 與高附加價值產品帶動明顯,需求已反映在訂單與出貨。
    4. 4. 名古屋新廠已竣工,2026–2027 年看好 HPC、HBM、Hybrid Bonding 與 PLP 新機會;隨台積電 2 奈米與 CoWoS 擴產,可持續放大設備出貨。
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  • 台股 5443
    均豪
    受惠中
    1. 1. 半導體營收占比已升至約 79%~80%,主攻 AOI 檢測、CMP 研磨 / 拋光與晶圓再生設備,直接吃到 2 奈米與先進封裝的平坦化需求。
    2. 2. AI 晶片帶動 CoWoS、OSAT 擴產,晶圓外觀檢查與白光干涉量測已打進晶圓代工與日月光製程,2026 年相關設備出貨可望大幅放量。
    3. 3. 均豪以「檢、量、磨、拋」整合方案切入,能對應晶圓越薄越高的低損傷研磨與良率管理需求,較單一設備廠更容易綁定客戶製程。
    4. 4. 從面板設備轉型後毛利率已升至 35.1%,再加上 G2C 聯盟與在地化服務優勢,成功切入高毛利半導體供應鏈,營運結構持續優化。
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  • 台股 3583
    辛耘
    受惠中
    1. 1. 自製濕製程設備涵蓋單晶圓清洗、蝕刻、貼合 / 剝離與烘烤,直接卡位 CoWoS、SoIC、WMCM 等先進封裝的減薄與前後段處理需求。
    2. 2. 12 吋再生晶圓月產能已由約 16 萬片升至 21 萬片,並規劃再增至 25 萬片;2 奈米與 3 奈米投片放量,將同步推升監控片與耗材需求。
    3. 3. 2026 年自製設備產能已滿載,訂單能見度延伸到 2027 年,湖口二廠與台南新廠陸續開出,能把 AI / HPC 擴產需求轉成實際出貨。
    4. 4. 營運結構由代理轉向高毛利設備與再生晶圓雙引擎,製造業務比重持續拉高;先進封裝與晶圓薄化需求越強,毛利率與獲利彈性越明顯。
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晶圓減薄與再生晶圓服務承接晶圓廠測試片、監控片、擋片與薄化加工需求。先進製程導入 2 奈米 GAA、A16 晶背供電與晶圓鍵合後,製程監控與表面修整次數增加,帶動再生晶圓周轉與薄化需求。昇陽半為再生晶圓 Tier-1 供應商,受惠於先進製程投片與月產能擴張;中砂兼具鑽石碟與再生晶圓雙引擎,受惠純度更高。辛耘、均豪則透過再生晶圓設備、清洗、研磨與量測參與,觀察重點是月產能、稼動率、客戶占比與高階再生晶圓 ASP。
  • 台股 8028
    昇陽半導體
    受惠高
    1. 1. 台積電 2 奈米導入 GAA、A16 與晶背供電後,再生晶圓用量乘數上升,業界估 2nm 較 3nm 再增約 17%,昇陽半作為 Tier-1 直接受惠。
    2. 2. 公司已提前擴產,2026 年月產能目標上看 120 萬片,能承接台積電與記憶體客戶拉貨高峰;1Q26 營收 13.03 億元、年增 20.41%,稼動率持續走高。
    3. 3. 先進製程監控片、測試片與晶圓薄化需求同步增加,再生晶圓與薄化服務具高技術門檻與良率要求,擴產完成後營運槓桿會明顯放大。
    4. 4. 除再生晶圓外,已布局 SiC Carrier、Silicon Dummy Filler 等先進封裝材料,若 CoWoS、SoIC 持續擴產,可把成長動能延伸到第二條產品線。
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  • 台股 1560
    中砂
    受惠高
    1. 1. 鑽石碟已切入台積電 3 奈米約 7 成、2 奈米上看 8 成供應鏈,A16 導入晶背供電後 CMP 道數升至約 70 道以上,單片耗材用量與 ASP 同步墊高。
    2. 2. 再生晶圓業務直接吃到 N2、A16 監控片與測試片需求,12 吋月產能由 33 萬片推進至 40 萬片,高階產品占比提高,有助稼動率與毛利率持續改善。
    3. 3. DBU 與 SBU 已合計占營收約 8 成,半導體營收比重約 77%~80%,AI、CoWoS、SoIC 與 HBM 推升晶圓薄化與平坦化需求,讓雙主軸同步放量。
    4. 4. 2026 年鑽石碟月產能目標拉升至 6 萬顆以上,1Q26 營收年增近 3 成、毛利率升至 35% ,顯示先進製程擴產已實際轉化為營運成長。
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    彙整國內外數十份產業報告,濃縮 5~7 點受惠關鍵

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  • 台股 3583
    辛耘
    受惠中
    1. 1. 自製濕製程設備涵蓋單晶圓清洗、蝕刻、貼合/剝離與烘烤,直接卡位 CoWoS、SoIC、WMCM 的減薄與前後段處理需求,AI 擴產越快出貨越強。
    2. 2. 12 吋再生晶圓月產能已由約 16 萬片升至 21 萬片,並規劃再增至 25 萬片;2 奈米與 3 奈米投片放量,將同步推升監控片與耗材需求。
    3. 3. 2026 年自製設備產能已滿載,湖口二廠與台南新廠陸續開出,訂單能見度延伸到 2027 年,顯示先進封裝與晶圓廠擴產正在轉成實際營收。
    4. 4. 代理設備、自製設備與再生晶圓三引擎並行,自製與再生晶圓比重提升可拉高毛利率;台積電在地化採購與供應鏈去風險化,也有利辛耘接單。
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  • 台股 5443
    均豪
    受惠中
    1. 1. 半導體營收占比已升至約 79%~80%,主攻 AOI 檢測、CMP 研磨 / 拋光與晶圓再生設備,直接吃到 2 奈米與先進封裝平坦化需求。
    2. 2. 再生晶圓與研磨設備已切入昇陽半等客戶,先進製程每片晶圓所需再生晶圓乘數上升,2 奈米與 A16 放量會同步拉高稼動率與接單。
    3. 3. 均豪以「檢、量、磨、拋」整合方案搶進,從面板設備轉型後毛利率升至 35.1%,客戶黏著度提高,較單一設備廠更容易綁定製程。
    4. 4. 三大自製設備已在晶圓大廠與封測廠驗證,鎖定先進封裝與再生晶圓市場,訂單能見度延伸到 2027 年,營收與獲利有望持續放大。
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下游需求來自 CoWoS、SoIC、FOWLP、Chiplet、HBM、TSV 與混合鍵結,這些製程提高晶圓薄化、RDL / TSV 平坦化、切割與表面修整需求,進一步拉動上中游設備與耗材消耗。日月光與 Amkor 受惠先進封裝外包與 OSAT 技術升級,對研磨、切割與薄化服務需求同步增加;精材聚焦晶圓級封裝與測試,屬較間接受惠。台積電是需求與技術路線主導者,但研磨利潤主要由供應鏈承接,因此 benefit_level 較低;追蹤重點是 CoWoS 產能、HBM 世代升級、OSAT 外包比例與封裝良率。
  • 台股 3711
    日月光投控
    受惠中
    1. 1. 日月光投控是全球最大 OSAT 之一,LEAP、CoWoS-like、先進測試與封裝前減薄需求同步放量,直接拉升研磨、切割與平坦化相關作業量。
    2. 2. 台積電 CoWoS 產能吃緊帶動外包比例提高,日月光承接 oS、CP、FT 訂單,2026 年先進封裝營收目標上看 32 億美元,年增逾 100%。
    3. 3. 楠梓第三園區與多地擴產聚焦先進封裝與測試,2026 年資本支出續創高,高階產能擴張會進一步推升晶圓薄化與後段修整耗材需求。
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  • 美股 AMKR
    艾克爾
    受惠中
    1. 1. Amkor 是全球最大美系 OSAT,直接承接台積電 CoWoS 外溢與 AI / HPC 委外封裝,2026 年 Q1 營收年增 27%,成長主力已轉向高階封裝。
    2. 2. TSV reveal、晶圓薄化、背面金屬化與 2.5D / HDFO 量產都需要減薄、切割與 CMP 前後段處理,Amkor 亞利桑那新園區正放大這些研磨需求。
    3. 3. 與台積電簽下 10 年合作、在 Arizona 共建先進封裝與測試能力,配合 CHIPS 法案與在地化採購,讓其後段產能擴張更容易轉化為長單。
    4. 4. 2026 年資本支出拉高到 25 億至 30 億美元,顯示擴產不是題材而是實建;封裝與測試產能同步提升,對薄化、研磨與測試整合需求形成持續拉貨。
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  • 台股 3374
    精材
    受惠低
    1. 1. 台積電相關訂單占營收逾 75%,主力是晶圓測試與 WLCSP 封裝;先進封裝外溢帶動 12 吋測試、晶背加工與客製化 CSP 需求同步增加。
    2. 2. 中壢新廠 12 吋測試產能已在 2026 年第 2 季底前完成裝機,第三季底可較去年底增加 50%,直接承接 AI / HPC 與邏輯 IC 測試放量。
    3. 3. 12 吋 CSP 產能已擴至每月 2,000 片,且新專案陸續驗證 / 量產;車用 CIS、AR / VR 與智慧眼鏡等高階封裝需求,提升產品組合與稼動率。
    4. 4. 屬先進封裝與測試的間接受惠者,不直接做研磨耗材,但晶圓測試、薄化、背磨與封裝前後段加工量增加,會帶動營收與產能利用率上升。
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  • 台股 2330
    台積電
    受惠低
    1. 1. 台積電是 CoWoS、SoIC、A16 與 2 奈米的需求與技術路線主導者,先進封裝擴產會直接拉高 CMP、背磨與薄化用量,但研磨利潤多由供應鏈承接。
    2. 2. A16 導入晶背供電後,CMP 道數預估升至 77 道,較 N2P 明顯增加;晶圓需更薄、更平坦,帶動鑽石碟、研磨墊與再生晶圓的耗材需求放大。
    3. 3. CoWoS 月產能已由 2024 年底約 3.5 萬片擴至 2026 年約 12–14 萬片,AI GPU 與 HBM 持續吃緊,封裝良率與薄化規格升級會同步推升研磨作業量。
    4. 4. 台積電 2026 年資本支出上看 520–560 億美元,持續投向先進製程與先進封裝,等於替中砂、昇陽半、頌勝等供應鏈創造長線訂單,但本身屬間接受益。
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