艾司摩爾計畫向台積電、英特爾、三星交付最新的 High-NA EUV

為什麼重要

• High-NA EUV 曝光機的交付將直接提升台積電、英特爾、三星在先進半導體製程技術的競爭力，尤其在 AI 應用和高階消費電子產品晶片的生產上。

背景故事

• 艾司摩爾作為領先的光刻機製造商，其開發的 High-NA EUV 技術被視為下一代半導體生產的關鍵。

發生了什麼

• 艾司摩爾計畫於 2024 年向台積電、英特爾、三星交付最新的 High-NA EUV 曝光機。

• High-NA EUV 能夠使用僅 8 奈米厚的線印製半導體，比上一代機器小 1.7 倍，主要用於生產 AI 應用和先進消費電子產品的晶片。

• High-NA EUV 售價為 3.5 億歐元（約 3.8 億美元），重量相當於兩台 A320 飛機。

接下來如何

• High-NA EUV 的交付將使得台積電、英特爾、三星能夠生產更先進的半導體晶片，進一步推動 AI 和消費電子產品的發展。

• 艾司摩爾預計 2025 年營收可能處於指導區間的上半部，反映了 High-NA EUV 技術的市場需求強勁。

• 台積電可能於 2028 年在 A14 節點上使用 High-NA EUV，展現了長期對此技術的需求。

他們說什麼

• 艾司摩爾財務長 Roger Dassen 表示，台積電、英特爾、三星將於 2024 年底前獲得 High-NA EUV。

• 台積電業務開發資深副總裁張曉強認為 High-NA EUV 過於昂貴，且 2026 年底前的 A16 節點技術不需使用 High-NA EUV。

• Jefferies 分析師 Janardan Menon 預估台積電將於 2028 年在 A14 節點上使用 High-NA EUV，並預計艾司摩爾 2024 年剩餘三個季度的平均訂單為 57 億歐元，2025 年銷售額可達 400 億歐元。

提到的股票

• 2330 台積電

• ASML 艾司摩爾

• INTC 英特爾

概念股

• 曝光機