英特爾將接收第二套 High-NA EUV 裝置
發佈時間:2024/08/06
為什麼重要
英特爾接收高數值孔徑極紫外光微影裝置將加速其在先進製程技術的發展,直接影響半導體產業的競爭格局,尤其是對台積電、三星電子等競爭對手。
英特爾股價的顯著下跌反映了市場對其短期財務表現和長期技術發展策略的擔憂,對投資人而言,這是評估其投資組閤中相關科技股風險的重要指標。
背景故事
#High-NA EUV 微影裝置、#艾司摩爾訂單、#2027 年量產
英特爾於 2022 年 12 月開始收到第一臺艾司摩爾出貨的 High-NA EUV 微影裝置,需要數月組裝完成。
艾司摩爾已接到超過十張 High-NA 裝置的訂單,客戶包括臺積電、英特爾、三星電子、SK 海力士、美光等。
發生了什麼
#第二套裝置、#奧勒岡州廠區、#未透露客戶
英特爾準備接收第二套來自艾司摩爾的 High-NA EUV 微影裝置,價格高達 3.5 億歐元(3.83 億美元)。
基辛格在財報說明會上表示,第二套 High-NA 工具將進入奧勒岡州廠區,並認為公司的科技投資展現了良好的早期跡象。
艾司摩爾高階主管於上月 17 日表示,已開始出貨第二套 High-NA 裝置給客戶,但未透露客戶身份。
接下來如何
#組裝與測試、#競爭力提升、#裝置部署
英特爾將進行第二套 High-NA EUV 微影裝置的組裝與測試,為 2027 年前的量產做準備。
英特爾的科技投資,包括 High-NA EUV 微影技術,預期將提升其在半導體製造領域的競爭力。
其他 High-NA EUV 微影裝置的客戶,如台積電、三星電子等,也將根據各自的計劃進行裝置接收與部署。
他們說什麼
英特爾 CEO 基辛格在財報說明會上強調,第二套 High-NA 工具的接收與部署展現了公司對科技投資的承諾及其帶來的早期正面跡象。
艾司摩爾執行長富凱提到,DRAM 記憶晶片製造廠可能在 2025 年或 2026 年開始使用 High-NA 裝置,顯示 High-NA EUV 微影技術對於未來半導體製造的重要性。
提到的股票
概念股
參考資料
編輯整理:Ryan Chen