台積電認為 High-NA EUV 曝光機價格過高，尚未決定購買時間

為什麼重要

• ASML 的新型 High-NA EUV 曝光機對於提升半導體製程精度至關重要，直接影響晶片製造商如台積電和英特爾的產品競爭力和成本結構。

• 英特爾訂購 ASML 新設備並計劃運至美國工廠，顯示其積極布局先進製程技術，對於半導體代工市場格局可能產生變化。

背景故事

• 成本上升和技術複雜性增加使得先進晶片製造變得更困難，對半導體製造商來說是一大挑戰。

• 英特爾面臨重新獲得技術優勢的挑戰，並進軍由台積電主導的代工市場。

發生了什麼

• 台積電業務開發資深副總裁張曉強於阿姆斯特丹的科技研討會上表示，雖然對 ASML 的 High-NA EUV 曝光機性能感到滿意，但因成本過高而尚未決定購買時間。

• ASML 的 High-NA EUV 曝光機每台售價約 3.8 億美元，能使用 8 奈米厚的線壓印半導體，比上一代小 1.7 倍。

• 英特爾已訂購最新的 High-NA EUV 曝光機，計劃於今年 12 月底運至美國俄勒岡州工廠。

接下來如何

• 台積電將根據經濟意義和技術平衡來決定是否使用 ASML 的新技術。

• 台積電的 A16 節點技術預計於 2026 年底推出，不需使用 ASML 的 High-NA EUV 曝光機。

• 英特爾透過引進 ASML 的 High-NA EUV 曝光機，將加速其在代工市場的競爭力提升。

他們說什麼

• 台積電業務開發資深副總裁張曉強表示，台積電對 High-NA EUV 的性能感到滿意，但需要考量成本與技術的平衡。

• 張曉強指出，工廠運營成本包括建築、工具、電力和原材料一直在上漲，是產業共同面臨的挑戰。

• 英特爾本周一宣布其代工服務部門的新總經理，顯示其積極調整策略以提升在代工市場的競爭力。

提到的股票

• 2330 台積電

• ASML 艾司摩爾

• INTC 英特爾

概念股

• 曝光機