雙鴻 OCP 展首秀 6MW 液冷分配設備!前三季營收年增逾 7 成,搶攻 AI 資料中心散熱商機

首度展示 6MW In-Row CDU 產品布局從晶片散熱延伸至資料中心
散熱大廠雙鴻(3324)積極搶攻 AI 資料中心液冷商機,參加 10 月 12 日至 15 日在美國聖荷西舉行的 2026 年 OCP Global Summit(開放運算計畫全球高峰會),以「Beyond Cooling, Beyond Energy」為主題,展示直接液冷(DLC)、冷卻液分配單元(CDU)及系統整合等新一代散熱解決方案,其中首次展出 6MW In-Row CDU,象徵公司產品布局從 GPU、CPU 等晶片端散熱模組,進一步擴大至機櫃與資料中心液冷基礎設施。
隨著生成式 AI 與高效能運算需求持續攀升,新一代 AI 伺服器的功耗與運算密度不斷提高,單一 AI 機櫃散熱需求已朝 200kW 以上發展,傳統氣冷技術逐漸面臨散熱能力與能源效率的限制,直接液冷因此成為 AI 資料中心的重要發展方向。
雙鴻此次展示的 6MW In-Row CDU,可配置於機櫃列間,負責多個液冷負載所需的冷卻液循環、流量控制與熱交換。相較於僅針對單一設備或機櫃設計的散熱產品,機房級 CDU 有助於擴大液冷系統的整體供應範圍,也讓散熱廠商的競爭從零組件技術延伸至系統整合與能源管理。
導入預測式控制與模組化設計 強化高功率運算散熱效率
在產品設計方面,雙鴻表示,6MW CDU 可依據 IT 設備負載變化,動態調整冷卻液流量與壓差,並透過預測式控制提前調整冷卻能力,降低高功率運算負載快速變動時的過熱及降頻風險。
維護設計則採用免工具模組化架構,水泵、控制單元及過濾網均可透過模組化方式進行維護,並導入智慧群控功能,提升設備維護效率與系統運轉穩定性。
除了 CDU,雙鴻也展示新一代直接液冷解決方案,將液冷應用從 GPU、CPU 進一步延伸至特殊應用積體電路(ASIC)、DIMM 記憶體模組、PCIe 高速傳輸介面,以及 Power Shelf、Power Busbar 等電源系統。
隨著 AI 伺服器內部高發熱元件增加,散熱需求已不再侷限於運算晶片,而是逐步擴大至記憶體、高速傳輸及電源系統。雙鴻透過液冷板(Cold Plate)、CDU 及系統整合能力,擴大單一 AI 機櫃可供應的散熱產品範圍,並朝降低風扇依賴、提升高密度運算設備能源效率的方向發展。
AI 液冷需求帶動業績 前三季營收 270.4 億元、年增 72.39%
營運表現方面,雙鴻 2026 年前三季累計營收達 270.4 億元,年增 72.39%;今年上半年歸屬母公司業主稅後淨利為 21.33 億元,每股盈餘(EPS)達 23.01 元,反映 AI 伺服器散熱需求升溫,帶動公司營收與獲利規模擴大。
雙鴻產品涵蓋氣冷散熱模組、均熱板、熱管、液冷板及液冷系統,應用於 AI 伺服器、資料中心與高效能運算設備。過去伺服器主要仰賴風扇及氣冷技術,但隨著 AI 加速器功耗提升、機櫃運算密度增加,液冷技術的重要性持續提高,也為散熱供應鏈帶來新的成長機會。
在直接液冷架構中,Cold Plate 負責將 GPU、CPU 等元件產生的熱量傳遞至冷卻液,CDU 則負責冷卻液循環、流量控制及熱交換,是連接 IT 設備液冷迴路與資料中心冷卻基礎設施的重要設備。隨著產品規格升級,具備液冷零組件與系統整合能力的供應商,有機會提高單一 AI 機櫃的產品供應價值。
200kW 以上 AI 機櫃成趨勢 後續觀察 CDU 驗證與量產進度
展望後市,雙鴻的成長動能主要來自 AI 機櫃功率提升、液冷應用範圍擴大,以及資料中心對節能與高可靠度散熱系統的需求。
首先,隨著新一代 GPU 及 AI 運算平台持續提高功率密度,200kW 以上 AI 機櫃的散熱需求可望推動液冷系統升級,帶動液冷板及相關零組件需求。
其次,液冷技術逐步從 GPU、CPU 擴大至 ASIC、記憶體、高速傳輸介面與電源系統,若更多機櫃元件導入液冷,將有助於提高單一機櫃的散熱產品需求,進一步擴大雙鴻的市場機會。
第三,此次首次展示 6MW In-Row CDU,代表雙鴻積極由晶片端散熱產品跨足資料中心液冷基礎設施。後續值得關注的重點,包括產品驗證進度、客戶導入情況及量產出貨時程,以及高功率液冷設備對營收與獲利的實際貢獻。
此外,AI 資料中心耗電量持續增加,散熱系統除了必須滿足高功率運算需求,也需要降低冷卻設備本身的能源消耗。雙鴻透過預測式控制、智慧群控與模組化設計,提升液冷系統效率及可靠度,有望進一步強化在 AI 散熱市場的競爭力。
整體而言,雙鴻前三季營收年增逾 7 成,展現 AI 散熱需求帶動的成長動能;隨著液冷應用從晶片端延伸至整個機櫃與資料中心,6MW In-Row CDU 能否順利完成客戶驗證,並進入量產,將是後續觀察公司產品組合升級與成長動能的重要指標。