產業解析:玻璃基板製程與供應鏈機會
前言
上一篇報告,我們大致為讀者整理了先進封裝玻璃基板展望與競爭格局。本篇文章我們將為大家整理先進封裝玻璃基板製程、供應鏈公司概況。在本篇文章主要內容為:
玻璃母材製程與主要業者
TGV 開孔製程與供應鏈
TGV 孔壁金屬化製程與供應鏈
玻璃核心表面處理製程與供應鏈
玻璃基板切割製程與供應鏈
玻璃基板檢測設備供應鏈
台灣供應鏈公司發展摘要
注意:文中提及潛在供應鏈部分企業,僅為依現行先進封裝與載板製程供應鏈進行之潛在供應商推論,但不代表內容中所有企業都已明確展開玻璃基板業務,讀者仍需慎評估相關資訊。

(玻璃載板製程,圖片來源:鈦昇科技法說會簡報)
玻璃母材製程與主要業者
玻璃基板在大尺寸封裝中的諸多優點:熱膨脹係數 CTE 可客製、平坦度與均勻性高、低鹼低應力,主要取決於玻璃材料配方與製程,因此玻璃母材為玻璃基板最關鍵材料。無鹼硼鋁矽酸鹽玻璃 (Alkali-free Boro-Aluminosilicate) 在金屬化、抗微裂紋、機械強度特質上優秀,估計將為玻璃基板材料主流配方候選。

(財報狗自行整理)
玻璃母材主流製程有三種:
溢流下拉法 (Overflow fusion down-draw):特點在於玻璃表面都在空氣中形成,沒有與模具、錫浴或成形滾輪接觸,因此表面最乾淨、粗糙度最低、平坦度極高,不需研磨拋光,為高階玻璃基板材料極佳選擇。
狹縫下拉法 (Slot down-draw):特點在於可透過狹縫噴嘴精準控制厚薄,非常適合超薄玻璃要求,配合在粗糙度低、平坦度高,同為高階玻璃基板材料潛力選項之一。
浮法 (Float):特點在於適合大尺寸、大量生產、成本較低。但由於製程中玻璃底面直接接觸熔融錫液,導致表面粗糙度、平坦度、薄度上表現遜於其他製程,多半需要額外清洗、拋光或表面處理步驟,因此估計主要為中低階、量產型玻璃基板材料主要選擇。

目前先進封裝玻璃母材主要業者為:康寧 (GLW)、日本電氣硝子 NEG、德國肖特 SCHOTT、艾杰旭 AGC,但由於專利群、長年研發與製程經驗、設備投入成本等差異,導致四家業者在製程上專精偏好不同
康寧、日本電氣硝子 NEG 以溢流下拉法為主
肖特 SCHOTT 以狹縫下拉法、浮法為主
艾杰旭 AGC 以浮法為主
這導致艾杰旭 AGC 在先進封裝高階玻璃母材略為劣勢,需要更多額外製程才能彌補缺點。
TGV 玻璃開孔製程與供應鏈
玻璃母材形成後,玻璃載板、中介層接下來的關鍵製程步驟為 TGV (Through Glass Via) 玻璃開孔。開孔方式眾多,但由於雷射誘導選擇性蝕刻 (Selective Laser Etching) 在關鍵的抗微裂紋、孔壁平坦度表現最佳,因此為目前先進封裝玻璃基板主力開孔技術。

與雷射鑽孔和機械鑽孔採取 “直接” 把玻璃打穿方式不同,雷射誘導選擇性蝕刻採取兩階段漸進開孔:
玻璃改質:以超短脈衝雷射 “冷加工” 照射預定孔洞位置,使得孔洞位置玻璃材質發生改變,對特定蝕刻液的反應性提高,更容易被蝕刻液溶解,避免長脈衝雷射靠熱能直接熔融蒸發玻璃打穿卻導致破裂。
蝕刻穿孔:對玻璃材料進行化學蝕刻,被雷射照過的改質位置蝕刻速度遠高於未改質區域,因此玻璃預定孔洞位置會先被溶蝕而形成通孔。至於蝕刻方式目前各家技術選擇不同,LPKF 的 LIDE 技術採用濕式蝕刻,晶呈的 LIDY 以氣相蝕刻為主。

(雷射誘導選擇性蝕刻 - 濕式蝕刻路線,財報狗製圖)
材料供應鏈地圖
下面我們嘗試彙整 TGV 開孔 - 雷射誘導選擇性蝕刻有潛力的材料供應業者:
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前清洗化學品:開孔前進行表面清洗,避免污染造成局部改質或蝕刻不均
海外業者:關東化學、Tokuyama 德山、富士電子材料、三菱化學、三菱瓦斯化學、BASF、Stella Chemifa
台灣業者:李長榮化工、長春、三福化 (4755)、勝一 (1773)
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蝕刻氣體:用於玻璃改質區氣相乾式蝕刻
主要業者:晶呈科技 (4768)
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蝕刻液:用於玻璃改質區濕式蝕刻,選項包含 HF、KOH、NaOH
海外業者:Stella Chemifa、森田化學、富士電子材料、關東化學、住友化學、BASF
台灣業者:三福化 (4755)、僑力化工、聯仕電子化學 (住友化學收購)、晶呈科技 (4768)
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去殘渣/清洗液:去除開孔後殘留玻璃微粒、重熔層、微裂紋
海外業者:MKS (MKSI) / Atotech、MacDermid Alpha、Chemtronics、Parker Corporation、Qnity (Q)
台灣業者:李長榮化工、芝普 (7858)、添鴻科技 (弘塑 3131 子公司)、達興材料 (5234)、三福化 (4755)
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Rinse 漂洗液:去除蝕刻液副產物與微粒
海外業者:富士電子材料、Qnity (Q)、Merck、關東化學、TOK、BASF、三菱化學、住友化學
台灣業者:芝普 (7858)、三福化 (4755)、勝一 (1773)、聯仕電子化學 (住友化學收購)
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乾燥材料:去除孔內與表面水分,避免水痕、離子殘留、乾燥斑與後續金屬化不良
海外業者:Tokuyama 德山、富士電子材料、LG Chem、BASF、三井化學、住友化學
台灣業者:李長榮化工、長春、勝一 (1773)、聯仕電子化學 (住友化學收購)
設備供應鏈地圖
下面我們嘗試彙整 TGV 開孔 - 雷射誘導選擇性蝕刻有潛力的設備業者:
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雷射改質設備
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雷射改質氣相乾蝕刻設備
主要業者:晶呈科技 (4768)
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雷射改質濕蝕刻設備
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開孔後去殘渣/清洗 / Rinse 漂洗設備
海外業者:RENA Technologies、SCHMID、FNS Tech、MKS (MKSI) / Atotech
TGV 金屬化製程與供應鏈
玻璃母材 TGV 開孔後,下個關鍵製程為孔壁金屬化製程,讓玻璃通孔可通電、上下表面後續銅電路可透過通孔傳輸互連。此步驟可以由 TGV 加工業者執行,也可以由玻璃載板、玻璃中介層成品業者執行。
孔壁金屬化
孔壁金屬化主流路線,是在孔壁上電鍍銅金屬層,但首先遭遇的難題為**玻璃上金屬附著力低。為了克服玻璃上銅附著力低的問題,會在銅與玻璃表面之間引進一層極薄晶種層 seed layer 作為黏著用途。晶種層作用類似雙面膠,與玻璃接觸面的附著力強於銅,但於銅接觸面的附著力又強於玻璃,進而解決銅附著力低的問題。晶種層製程上分成濺鍍與化學鍍兩大路線。

形成晶種層第一種主流路線為 PVD 濺鍍:
先在玻璃表面上濺鍍鈦 Ti、鉻 Cr,兩者對氧有極高的化學親和力,能材質為 SiO2 的玻璃表面形成極為牢固的 Si-O-Ti 共價鍵
接著在鈦 Ti、鉻 Cr 表面再濺鍍銅晶種層,銅與鈦之間能形成良好的金屬間鍵結,解決了銅對玻璃附著力差的問題
濺鍍路線在提高附著力上表現優秀,但死穴在於難以深入孔洞內部,導致 Ti、Cr 金屬粒子容易沉積在孔口與上段孔壁,在高深寬比通孔容易出現金屬層厚度上厚下薄問題。
為了克服克服孔壁金屬層厚薄不一問題,形成晶種層第二種路線為化學鍍。化學鍍步驟稍微繁複:
玻璃表面改質:在孔壁塗佈矽烷偶聯劑 (Silane Coupling Agent) 藥液,矽烷的矽基會與玻璃表面形成牢固的 Si-O-Si 共價鍵
塗佈鈀 Pd 催化劑:把改質後玻璃再浸入含有鈀 Pd 催化劑藥液中,鈀離子會被矽烷偶聯劑的胺基抓住,在玻璃表面形成高密度且分布均勻的鈀 Pd 催化層。
濕鍍銅晶種層:再將塗佈鈀 Pd 催化劑後的玻璃浸泡在鍍銅藥液槽,銅離子會以鈀 Pd 點為中心還原析出,迅速結合成連續且緻密的銅薄膜晶種層
由於化學鍍原理是將玻璃基板浸入化學藥液中,藥液比濺鍍更能充份擴散進入高深寬比的微孔內部,因此更能鍍出均勻連續的銅晶種層,但在對玻璃附著力上弱於濺鍍。

(財報狗製圖)
兩種路線各有好壞,一般而言深寬比較低孔洞濺鍍為首選,高深寬比孔洞可考慮化學鍍。玻璃孔壁鍍上銅晶種層後,接著就會接續進行銅電鍍程序,形成更厚的孔壁銅層。
玻璃通孔填孔 Via Fill
孔壁金屬化後,中心的通孔也必須填孔。通孔填孔有兩種選擇:
樹脂填孔:通孔用樹脂、介電填料填充。好處是填孔速度快;但缺點在於通孔內導電只依賴薄薄的孔壁銅金屬層,能承受的電流較小、電阻較高、損耗也較高。
全銅填孔:全銅填孔由於金屬導電面積增加,因此能夠承載更大電流、電阻更低、電訊號損耗降低,金屬增加也提升散熱傳導效益。基於以上,全銅填孔比較適合追求高速傳輸、低損耗的 AI/HPC 高階應用;樹脂填孔則適合 RF、MEMS、較大孔徑或特別重視成本的產品。
全銅填孔目前主流路線為銅電鍍填孔,但電鍍銅會引入以下風險:
透過化學反應慢慢長出銅,填孔速度慢
如果晶種層不均勻,銅金屬粒子同樣容易沉積在孔口與上段孔壁,在高深寬比通孔容易出現內部孔洞問題。
玻璃與電鍍銅熱膨脹 CTE 不匹配,在後續封裝遭遇高溫時,銅膨脹會比玻璃更快,可能會撐破孔壁導致微裂紋產生。
為了解決以上問題,晶呈科技與創新服務共同研發另一全銅填孔技術:銅柱填孔。銅柱填孔是預先在外部製造好尺寸極度精準的實心銅柱 Cu Pillar,再將銅柱陣列直接塞入玻璃通孔中;銅柱與玻璃孔壁間隙,再用高分子膠材或特製介面材料進行物理性填充密封。以上作法帶來以下好處:
銅柱可一次性巨量植入,速度快於電鍍銅
預製實心銅柱沒有內部空洞問題,解決高深寬比孔洞填孔容易有內部空洞問題
銅柱與玻璃間有專用膠體緩衝熱膨脹應力,降低高溫時孔壁導致微裂紋產生風險

(銅柱填孔簡化流程,財報狗製圖)
材料供應鏈地圖
下面我們嘗試彙整 TGV 孔壁金屬化有潛力的材料供應業者
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濺鍍銅晶種層 - 金屬靶材
海外業者:JX 金屬、Tosoh 東曹、Honeywell 電子材料、Linde / Praxair Surface
Materion、ULVAC、Plansee、江豐電子台灣業者:光洋科 (1785) 與旗下創鉅先進材料、鑫科 (3663)
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化學渡銅晶種層 - Silane Coupling Agents
Evonik、Momentive、陶氏化學 (DOW)、信越化學、Wacker Chemie、三菱化學 / Gelest
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化學渡銅晶種層- 電荷調整劑 / Pd/Sn 催化劑
海外業者:MKS (MKSI) / Atotech、MacDermid Alpha、Qnity (Q)、Uyemura 上村工業、JCU、Okuno 奧野製藥、Technic
台灣業者:超特國際
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化學渡銅晶種層 - 高純度電子級銅鹽
海外業者:住友金屬鑛山、JX 金屬、Univertical
台灣業者:長春石化、東琳興業
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化學渡銅晶種層 - 銅金屬化藥水
海外業者:MKS (MKSI) / Atotech、MacDermid Alpha、Qnity (Q)、Uyemura 上村工業、JCU、Okuno 奧野製藥、Technic
台灣業者:超特國際、開利達、恆利肯、揚勝化學、昶昕 (8438)
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孔壁電鍍銅、全銅填孔銅電鍍液
海外業者:MKS (MKSI) / Atotech、MacDermid Alpha、Qnity (Q)、Uyemura 上村工業、JCU、Okuno 奧野製藥、Technic
台灣業者:添鴻科技 (弘塑 3131 子公司)
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全銅填孔銅柱
主要業者:FINECS
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填孔樹脂:
海外業者:太陽油墨、三榮化學、Toray、Qnity (Q)、Resonac
台灣業者:達興材料 (5234)
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CMP 研磨液:金屬化完成後必須進行 CMP 平坦化,移除鍍銅、填孔時過多溢出至表面材料
海外業者:Entegris (ENTG)、Qnity (Q)、Fujimi 藤美、富士電子材料、AGC 艾杰旭、Resonac、默克 Merck
台灣業者:多聯科技 (三聯 5493 的轉投資)、達興材料 (5234)
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CMP 研磨墊
海外業者:Qnity (Q)、Entegris (ENTG)、Fujibo 富士紡
台灣業者:頌勝科技 (7788) 旗下的智勝科技
設備供應鏈地圖
下面我們嘗試彙整 TGV 孔壁金屬化有潛力的設備業者
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濺渡銅晶種層 - PVD 設備:通常也會整合 O₂ plasma cleaner 功能
海外業者:Evatec、ULVAC、應用材料 AMAT
台灣業者:友威科 (3580)、富臨與東捷 (8064)、天虹 (6937)、凌嘉科 (3644)
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化學鍍銅晶種層 - 孔壁活化 UV-ozone 獨立式設備
海外業者 Ushio、Samco、Sen Lights
台灣業者:志聖 (2467)、韶陽科技
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化學鍍銅晶種層 - 孔壁活化 O₂ plasma cleaner 獨立式設備,適合小尺寸和化學鍍製程
海外業者:Nordson MARCH、PVA TePla、Trymax、Panasonic
台灣業者:友威科 (3580)、馗鼎奈米、暉盛 (7730)、鈦昇 (8027)、富臨
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化學鍍銅晶種層 - 銅濕製程設備
海外業者:MKS (MKSI) / Atotech、YES、Schmid、Uyemura 上村工業
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銅沉積電鍍設備:用於孔壁沉積銅、全銅填孔
海外業者:MKS (MKSI) / Atotech、科林研發 (SEMSYSCO)、盛美半導體 (ACMR)、應用材料 AMAT (收購 NEXX)、Schmid、Uyemura 上村工業、Ebara 荏原、RENA Technologies、JCU
台灣業者:Manz 亞智、揚弈、亞碩
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銅柱植入設備
海外業者:MINAMI、KOSES
台灣業者:創新服務 (7827)
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液態樹脂填孔 - 真空填孔設備
海外業者:SERIA Corporation、ITC Intercircuit、蘇州晟豐
台灣業者:東遠 ATMA、聯恆 Lenstar
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乾模樹脂填孔 - 真空填孔壓模設備
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CMP 設備:金屬化完成後必須進行 CMP 平坦化,移除鍍銅、填孔時過多溢出至表面材料
玻璃表面處理製程與供應鏈
加工業者完成 glass core 玻璃核心的 TGV 開孔與金屬化後,後續製程多半轉向由載板廠或中介層業者接手進行。由於材料在玻璃核心附著力低於傳統有機材料核心,因此玻璃表面第一層金屬佈線、介電絕緣材料壓合需要採用不同於傳統基版的工序。
金屬佈線層
為了克服玻璃上銅附著力低的問題,玻璃表面銅佈線形成也是引入雙面膠作用的銅晶種層,晶種層製程同樣也是 PVD 濺鍍與化學鍍兩大路線。
PVD 濺鍍銅:提升附著力效益最好,但在處理速度較慢,因此成本相對較高,適合在意效能的高階晶片玻璃基板
化學鍍銅:相較於 TGV 孔壁化學鍍黏著強化多半採用矽烷偶聯劑 (Silane Coupling Agent),由於玻璃核心表面面積更大,對長期黏著力要求較高,因此更傾向採用金屬氧化物 sol-gel 黏著層作為玻璃和金屬之間的黏著強化劑。即便如此,化學鍍附著力仍較濺鍍路線弱,但由於大尺寸面積處理速度快,且與目前載板業者既有製程和設備契合,因此適用於在意成本的中低階晶片玻璃基板。

(財報狗製圖)
介電材料黏合強化
玻璃表面高度光滑缺乏足夠附著力,在反覆熱製程下 ABF 或 RDL 介電材料容易與玻璃表面剝離。為了強化介電材料對玻璃表面的黏著力,可以在兩者之間引入一層矽烷偶聯劑 (Silane Coupling Agent) 層:
先在玻璃表面塗佈矽烷偶聯劑藥液,矽烷端的矽基會與玻璃表面形成牢固的 Si-O-Si 共價鍵
後續和介電材料壓合時,偶聯劑另一端 (環氧基或氨基) 會與介電材形成牢固的網絡交聯
矽烷偶聯劑作用如何雙面膠一般,強化玻璃表面與介電材料黏著力,進而降低後續玻璃表面剝離風險。
材料供應鏈地圖
下面我們嘗試彙整玻璃表面處理有潛力的材料供應業者
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濺鍍銅晶種層 - 金屬靶材
海外業者:JX 金屬、Tosoh 東曹、Honeywell 電子材料、Linde / Praxair Surface
Materion、ULVAC、Plansee、江豐電子台灣業者:光洋科 (1785) 與集團下的創鉅先進材料、鑫科 (3663)
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化學渡銅晶種層 - 無機金屬氧化物黏著層材料
MKS (MKSI) / Atotech、Okuno 奧野製藥、Uyemura 上村工業
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化學渡銅晶種層 - Pd、Pd/Sn、Pd free 催化劑藥液
海外業者:MKS (MKSI) / Atotech、Okuno 奧野製藥、Uyemura 上村工業、MacDermid Alpha、Qnity (Q)、JCU
台灣業者:超特國際、芝普 (7858)
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化學渡銅晶種層 - 高純度電子級銅鹽
海外業者:住友金屬鑛山、JX 金屬、Univertical
台灣業者:長春石化、東琳興業
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化學渡銅晶種層 - 銅金屬化藥水
海外業者:MKS (MKSI) / Atotech、MacDermid Alpha、Qnity (Q)、Uyemura 上村工業、JCU、Okuno 奧野製藥、Technic
台灣業者:超特國際、開利達、恆利肯、揚勝化學、昶昕 (8438)
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金屬佈線用液態光阻
海外業者:TOK、JSR、默克 Merck、Qnity (Q)、富士電子材料
台灣業者:新應材 (4749)、永光 (1711)
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金屬佈線用液態光阻顯影液
規格/配方主導者:TOK、富士電子材料、默克 Merck、Qnity (Q)、JSR
代工與生產:三福化 (4755)、長春
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金屬佈線用乾膜光阻
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金屬佈線用乾膜光阻顯影液
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金屬佈線用去光阻液 stripper
海外業者:默克 Merck、Qnity (Q)、Technic、TOK
台灣業者:三福化 (4755)、達興材料 (5234)、添鴻科技 (弘塑 (3131) 子公司)、關東鑫林
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銅電鍍液
海外業者:MKS (MKSI) / Atotech、MacDermid Alpha、Qnity (Q)、Uyemura 上村工業、JCU、Okuno 奧野製藥、Technic
台灣業者:添鴻科技 (弘塑 (3131) 子公司)
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銅晶種層蝕刻液
海外業者:MKS (MKSI) / Atotech、MacDermid Alpha、ADEKA、JCU、MEC、MGC Trading
台灣業者:關東鑫林、添鴻科技 (弘塑 (3131) 子公司)、三福化 (4755)、達興材料 (5234)、芝普 (7858)
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介電材料黏合前清洗化學品
海外業者:MKS (MKSI) / Atotech、MEC、MacDermid Alpha、Technic、Uyemura 上村工業、ADEKA、Okuno 奧野、JCU
台灣業者:添鴻科技 (弘塑 (3131) 子公司)、關東鑫林、芝普 (7858)、達興材料 (5234)、李長榮化工
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介電材料黏合前銅微蝕刻液:讓銅佈線表面變粗糙,提升後續銅與介電材料之間黏著力
海外業者:MKS (MKSI) / Atotech、MEC、MacDermid Alpha、Okuno 奧野、Technic、ADEKA、JCU
台灣業者:添鴻科技 (弘塑 (3131) 子公司)、關東鑫林、芝普 (7858)、達興材料 (5234)
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介電材料與玻璃、銅黏合促進藥液
海外業者:MKS (MKSI) Atotech、MEC、MacDermid Alpha
台灣業者:芝普 (7858)、達興材料 (5234)
設備供應鏈地圖
下面我們嘗試彙整玻璃表面處理有潛力的設備供應業者
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濺渡銅晶種層 - PVD 設備:通常也會整合 O₂ plasma cleaner 功能
海外業者:Evatec、Ulvac、應用材料 AMAT
台灣業者:友威科 (3580)、富臨與東捷 (8064)、天虹 (6937)、凌嘉科 (3644)
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化學鍍銅晶種層 - 孔壁活化 UV-ozone 獨立式設備
海外業者 Ushio、Samco、Sen Lights
台灣業者:志聖 (2467)、韶陽科技
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化學鍍銅晶種層 - 孔壁活化 O₂ plasma cleaner 獨立式設備,適合小尺寸和化學鍍製程
海外業者:Nordson MARCH、PVA TePla、Trymax、Panasonic
台灣業者:友威科 (3580)、馗鼎奈米、暉盛 (7730)、鈦昇 (8027)、富臨
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化學鍍銅晶種層 - 銅濕製程設備
海外業者:MKS (MKSI) / Atotech、YES、Schmid、Uyemura 上村工業
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乾模光阻壓合設備
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乾模光阻烘烤設備
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液態光阻 slit 塗佈設備
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液態光阻烘烤設備
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曝光機
Stepper:ONTO、Canon、Ushio
LDI:SCREEN、ADTEC / Ushio、ORC Manufacturing、EVG、 KLA (KLAC)、Nikon、應用材料 (AMAT) + Ushio
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顯影設備
海外業者:Schmid、SCREEN、SUSS MicroTec、科林研發 (LRCX)、盛美半導體 (ACMR)
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銅沉積電鍍設備
海外業者:MKS (MKSI) / Atotech、科林研發 (SEMSYSCO)、盛美半導體 (ACMR)、應用材料 AMAT (收購 NEXX)、Schmid Group、Ebara 荏原、RENA Technologies
台灣業者:Manz 亞智、揚弈、亞碩、弘塑 (3131)
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去光阻、銅晶種層蝕刻設備
海外業者:Schmid Group、科林研發 (LRCX)、盛美半導體 (ACMR)
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ABF 與玻璃、銅黏著促進濕製程設備
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PID 介電材料與玻璃、銅黏著促進濕製程設備
ABF build-up 製程
玻璃表面銅佈線層與表面黏合力強化處理完後,玻璃載板後續將進行介電材料與銅佈線增層流程。目前增層主流路線有二:ABF 增層與 RDL 增層,其中 ABF 路線適用於銅佈線採用厚銅、較粗線寬線距的情境,因此多半更適用於玻璃載板。
玻璃基板 ABF 增層流程與 ABF 載板製程大致相同,兩者在此環節採用的材料、設備、製程經驗高度共用!因此我們在前一篇報告才會認為:既有載板業者在玻璃載板 ABF 多層增層能力上具備先天優勢。由於此環節所需材料、設備與 ABF 載板製程大致相同,並非玻璃載板特有,有興趣的朋友可以針對 ABF 載板製程自行研究,這裡不再贅述。

(ABF 增層流程,圖片來源:味之素)
RDL build-up 製程
介電材料與銅佈線增層另一主流路線為 RDL,適用銅佈線追求高密度、精細線寬線距情境,因此多半更適用於玻璃中介層。此環節流程與既有中介層 RDL 製程大致相同,採用的材料、設備、製程經驗高度共用!因此我們在前一篇報告才會認為:既有先進封裝、晶圓製造業者在玻璃中介層 RDL 製程具備先天優勢。
我們先前在面板級封裝材料與設備供應鏈機會的報告中,對於 RDL 製程材料與設備供應商已經有完整整理,有興趣的朋友可以再次參考先前報告內容,這裡亦不再贅述。

(RDL 簡化流程,圖片來源:JSR)
玻璃基板 Dicing 製程與供應鏈
與 TGV 開孔雷同,玻璃載板與中介層若採用傳統刀片或雷射切割,極容易造成崩邊 Chipping 或微裂紋 cracks。但比 TGV 開孔更複雜的是,成形的玻璃載板與中介層是由金屬銅、介電材料、玻璃等多種材料組成的複合機板,不同材料適合的切割方式不一,例如銅切割需要高能量去熔融或氣化,但玻璃核心卻經不起雷射高能量熱衝擊。這使得玻璃載板與中介層切割 Dicing 環節成為棘手技術瓶頸。
為了因應以上問題,主流製程目前傾向採用三階段切割。玻璃載板 Dicing 大致可分成三階段:
異質層選擇性消融 Ultrafast Laser Ablation:使用高選擇性的 Ultrafast 脈衝雷射(例如 LPKF 專利的 Tensor Ablation 技術),順著切割區精準掃描。由於脈衝時間極短,光子能量密度極高,對 ABF 和銅的加工屬於冷消融(Cold Ablation),雷射直接強行打斷材料的分子鍵,使其瞬間變成電漿氣化,熱量完全來不及傳導到下方的玻璃,完全不傷及玻璃表面。此時,切割線上 ABF、銅將被消融氣化,只留下一條極其乾淨純玻璃通道。
玻璃核心雷射改質 Laser Modification / Filamentation:延續上一步採用 Ultrafast 雷射,透過Bessel Beam 將光斑整形為一條垂直的射線,以極高速率沿著已暴露出來的玻璃通道沿進行打孔照射,使得玻璃內部由上至下誘發多光子吸收,形成一整排極其細密(直徑約 1um)的斷裂牆(Filamentation)。這時候玻璃通道並未斷裂,但內部結構已被完全破壞弱化。
雷射熱裂片分離 Laser Thermal Cleaving:最後再使用一束連續波或長脈衝 CO2 雷射沿著原切割線掃描,CO2 雷射能量會被玻璃表面高度吸收並產生局部高溫。緊接著設備會噴射極細的冷卻氣體或水霧,熱脹冷縮產生的熱應力差,將使得玻璃沿著上一步內部結構已被破壞的玻璃通道自然、平滑地裂開。

(玻璃載板切割簡化流程,財報狗製圖)
玻璃中介層 Dicing 大致也分成三階段,但由於玻璃核心明顯更薄,因此在玻璃切割方式不同
異質層選擇性消融 Ultrafast Laser Ablation:先處理對切割線上的 EMC 材料和 RDL 進行消融氣化,留下一條極乾淨純的玻璃通道。
隱形切割 Stealth dicing:使用奈秒~皮秒較長脈衝雷射波長穿透玻璃通道表面,使得薄玻璃通道內部材質改變,但表面看似沒有損傷
機械擴膜裂片分離 Tape Expansion:將 Stealth dicing 後的玻璃中介層移到到藍膜 tape 上,向四周拉伸藍膜(Tape Expansion),拉力會使弱化的玻璃結構直接斷裂分離。
設備供應鏈地圖
下面我們嘗試彙整玻璃基板 Dicing 有潛力的設備供應業者
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Ultrafast Laser ablation 設備
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Ultrafast Laser filamentation 玻璃改質設備
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雷射熱裂模組 / 設備
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Stealth dicing 設備
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機械擴膜模組 / 設備
海外業者:DISCO、ACCRETECH、OHMIYA、Corning Laser Technologies、Hugle Electronics、LINTEC 琳得科、POWATEC
台灣業者:正恩科技、鴻積科機、旭丞光電
玻璃基板檢測設備供應鏈
如同我們在前一篇報告中所述,玻璃基板檢測難度明顯高於傳統基版,因此檢測類型與步驟亦顯著增加:
TGV 開孔後:針對孔徑、孔距、錐度、腰部直徑、裂紋、缺孔與堵孔進行檢測
TGV 孔壁銅晶種層:銅晶種層厚度、銅連續性、側壁與孔底覆蓋渡、片電阻與導通量測
TGV 孔壁鍍銅:銅厚、內部空洞 void、孔底填充程度
玻璃核心表面 CMP 後:平坦度量測、表面殘銅、刮傷、粒子、裂紋檢測
玻璃核心表面銅佈線形成:面板級雙面 AOI、電性測試、尺寸與翹曲量測
ABF、RDL 每增層一層:面板級雙面 AOI、電性測試、尺寸與翹曲量測
Dicing 切割前:面板級雙面 AOI、電性測試、尺寸與翹曲量測
Dicing 切割後:AVI、AEI 進行外觀、邊緣與尺寸最終檢查
設備供應鏈地圖
下面我們嘗試彙整玻璃基板檢測有潛力的設備供應業者
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TGV 開孔 3D 量測設備:上下孔徑、孔深、側壁傾角、孔緣與側壁崩角/微裂紋
海外業者:KLA (KLAC)、ONTO、Camtek (CAMT)、Toray、SD Optics
台灣業者:蔚華科 (3055)、致茂 (2360)、德律 (3030) 與 OmniMeasure、由田 (3455)
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TGV 孔壁金屬化 XRF 量測設備:晶種層厚度量測
主要業者:Bruker、Rigaku
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TGV 孔壁金屬化四點探針量測設備:電阻量測
海外業者:Napson、KLA (KLAC)、Semilab、CDE
台灣業者:達裕科技、凱思隆科技、巨克富科技
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TGV 孔壁金屬化 Kelvin via/daisy-chain 量測設備:晶種層導電連續性量測
海外業者:HIOKI 日置電機、MicroCraft、Seica、FormFactor、Keysight、Keithley
台灣業者:旺矽 (6233)
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TGV 孔壁金屬化 SEM/FIB-SEM 設備:確認側壁與孔底金屬覆蓋
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介電材料 build-up 超音波 C-SAM 檢測設備:檢測層間是否有剝離、局部氣泡
主要業者:Nordson (NDSN)、PVA TePla、Sonix、日立 High-Tech、OKOS Solutions
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IR 紅外線檢測設備:成品電性失效檢測
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AOI 檢測
台灣供應鏈公司發展摘要
鑑於讀者對於台股較為熟悉,下面彙整部分台系供應鏈業者在玻璃基板發展狀況。
晶呈科技 (4768)
晶呈科技為半導體特殊氣體業者,主要應用於曝光、蝕刻、擴散製程環節。憑藉長期供應蝕刻氣體核心能力,公司於 2024~2025 推出的 LADY (Laser Arrow Decomposition Yield) 技術,應用於玻璃通孔 TGV 製程,並與創新服務合作 TGV 金屬化環節,對外供應 TGV 與金屬填孔後的玻璃核心。參考法說會資訊,晶呈科技 2025 年在 TGV 開孔後玻璃核心供應已與 12 家公司合作:
AI/CPO 載板製造商:台灣 2 家、日本 1 家,已取得小量訂單
AI/CPO IC 設計業者:美國 1 家、台灣 1 家,規格數量研議中
高階 OSAT 封裝業者:台灣 3 家,可靠性試驗進行中
公司目前有一條可進行 TGV 與金屬填孔玻璃核心產線,每月產能 5000片,預計 2026~2029 年產能將逐步擴充至 120 條產線,為台灣少數在玻璃基板明確邁入量產階段業者,值得持續追蹤 TGV 玻璃核心帶來的營收成長機會。
創新服務 (7828)
創新服務核心業務為 MEMS 探針卡自動化設備,包括自動植針、雷射鑽孔、製程檢測、自動換針與返修設備,探針卡巨頭之一 Technoprobe 為公司最大股東,貢獻公司約 60% 營收。在玻璃基板領域,創新服務與晶呈科技合作,由晶呈以 LADY 技術完成 TGV 開孔,再結合公司自家的巨量轉移金屬陣列銅柱技術 MAN (Metal Array Nanopin) 技術,將大量細實心銅柱一次性植入玻璃通孔完成金屬化,並對外供應 TGV 與金屬填孔後的 TGV-ICP (TGV with Inserted Cu Pillar) 玻璃核心。
參考法說會資訊,創新服務目前於台中新廠第一期有 12 條 TGV-ICP 玻璃核心加工產線,年產能預計 12 萬片;另配置 4 條銅柱模組產線,年產能可達 1000 萬件,預計 2026 下半年先開始量產 AiP、Power Module 等銅柱模組,TGV-ICP 玻璃核心則預計至 2027 年底逐步量產,為台灣少數在玻璃基板明確邁入量產階段業者,後續營收成長可期。

(圖片來源:創新服務 2026/6 法說會簡報)
鈦昇(8027)
鈦昇為以雷射技術與電漿 Plasma 技術為核心的設備業者,主力市場為半導體封裝與載板產業,目前營收組成為:
雷射設備 53%
電漿 Plasma 設備 10%
公司雷射設備過往主要用於封裝的雷射打印,為台灣龍頭;自 2022 年積極拓展先進封裝市場,目前其產品瞄準以下環節:
暫時載具雷射剝離設備 Laser Debonder
非感光介電層乾膜雷射開孔設備
介電層開孔後去膠電漿清潔設備
雷射拉曼光譜檢測設備
雷射切割設備
雷射打印設備
玻璃核心 TGV 雷射改質設備
玻璃載板 / 玻璃中介層為鈦昇在先進封裝關鍵機會。公司過往與 Intel 合作關係緊密,不僅供貨其先進封裝相關設備,2023 年更合作開發用於玻璃載板 / 玻璃中介層製程的 TGV 雷射改質設備,使得鈦昇為台灣少數於在此領域具備技術的設備業者。公司自 2023~2024 年已開始小量出貨給 Intel,2026 年估計將再增加一個日本客戶,隨著多家業者玻璃載板 / 玻璃中介層產能有望於 2027~2028 年量產下,也將成為鈦昇後續業績順風。

(圖片來源:鈦昇法說會簡報,財報狗)
東捷 (8064)
東捷前身為母公司東台精機的半導體事業部門,其設備主要面向 LCD、micro LED 面板檢測與自動化市場。公司於 2019 年開始切入半導體封裝領域,主要焦距於雷射技術相關應用,目前設備主要應用於以下環節:
暫時載具雷射剝離設備 Laser Debonder
介電層非感光乾膜雷射開孔
介電層開孔後去膠電漿清潔 (Descum)
模封 EMC 材料雷射修整
晶片雷射切割
玻璃載板雷射切割
AOI 檢測
研磨設備 grinder (與母公司東台共同研發)
東捷過往即為群創面板設備商,近年群創積極跨入面板級封裝,公司順理成章打入其面板級封裝供應鏈,2024~2025 年已出貨相關設備。隨著群創後續持續擴產面板級封裝產能,並積極投入玻璃載板 TGV 技術開發,且台積電已正式宣布將與群創合作開發玻璃核心 - ABF 載板,東捷作為群創供應鏈將有機會順勢擴大玻璃機板設備相關業務。
2026 年初志聖透過私募取得東捷約一成股權,成為公司最大股東。憑藉志聖與 G2C+聯盟在晶圓級封裝高能見度,有望加速擴大東捷先進封裝設備業務,並透過與聯盟夥伴整合形成一站式解決方案,提升對先進封裝客戶吸引力。
雷科 (6207)
雷科過去為台灣被動元件捲裝材料與 SMT 設備大廠,近年積極轉向擴大半導體與封裝業務。相關營收比重 2023 年僅 32%,2025 年已上升至 53%,成長主要來自於半導體相關設備營收擴大。雷科目前主要供應兩類型半導體設備:
雷射設備:雷科強項之一在於自製精密雷射設備能力,由過往在被動元件雷射修整、雷射劃線切割設備所累積的製造經驗,逐步切入 PCB、半導體雷射打印、雷射鑽孔、雷射切割設備。
量測設備:主要來自獨家代理德國 Cyber Technologies 設備銷售,近年已轉向由雷科負責設備代工製造。

(圖片來源:雷科法說會簡報)
在玻璃基版佈局上,雷科已正式推出 TGV 飛秒雷射鑽孔設備 (TGV Femto Drilling),2026 / 6 股東會明確表示 TGV 設備正處於台灣及日本客戶驗證狀態,為台灣少數明確跨入玻璃基版製程的設備業者,後續發展可持續追蹤。
Manz 亞智科技
Manz 亞智早期著墨於面板、PCB、載板的濕製程:清洗、顯影、蝕刻、剝膜設備,以及大尺寸板材與玻璃搬運、自動化設備。憑藉長年處理面板與濕製程經驗,亞智於 2014 年開始切入面板級封裝 PLP 市場,目前已具備 500×500~700x700mm FOPLP RDL 濕製程、電鍍與自動化設備量產能力;2024 年再度跨入玻璃基板領域,在 300x300、510x515mm 尺寸玻璃基板濕製程、電鍍設備也初步實現產品化:
玻璃基板濕製程 - 清洗設備
玻璃基板濕製程 - 蝕刻設備
TGV 通孔濕製程 - 清洗設備
TGV 通孔金屬電鍍設備
玻璃核心表面金屬電鍍設備
玻璃基板 RDL build-up 環節濕製程與電鍍設備
公司近期 Omni 310x - 310x310mm 面板級封裝 ECD、濕製程整合平台,近期已成功交付並導入客戶產線,平台可支援 FOPLP、CoPoS 及玻璃基板 TGV 製程,為台灣少數具備實際出貨成交的玻璃基板設備業者,值得密切關注其後續在 PLP 與玻璃基板的發展。
辛耘 (3583)
辛耘為半導體設備、再生晶圓與材料供應商,主力市場為半導體先進封裝,台積電為其最大客戶。目前營收組成為:
代理 60%
自製設備與再生晶圓 40%
其中自製設備業務約 70% 來自於濕製程設備。辛耘與 Manz 亞智都是鈦昇成立的 E-Core System 玻璃基板聯盟一員,兩者在聯盟中定位皆為濕製程環節方案提供者,估計公司在玻璃基板以下環節具備切入機會:
TGV 雷射改質濕蝕刻設備
TGV 開孔清洗設備
TGV 孔壁金屬化去光阻、銅晶種層蝕刻設備
玻璃核心表面金屬佈線去光阻、銅晶種層蝕刻設備
友威科 (3580)
友威科為真空濺鍍、電漿蝕刻設備業者,近年積極擴展先進封裝市場,2025 年先進封裝業務佔營收比重估計接近 50%。在玻璃基板,公司產品有望運用於下面環節
介電層開孔後去膠電漿清潔 (Descum)
Ti/Cu 晶種層濺鍍
玻璃核心通孔後去渣活化電漿
玻璃核心 Ti/Cu 晶種層濺鍍
公司估計目前已經打入群創 FOPLP 供應鏈,2025 年 FOPLP 佔營收比重約 20~25%。隨著群創明確持續投入玻璃通孔 TGV 研發,且與台積電將合作開發玻璃核心 - ABF 載板,友威科作為群創供應鏈將有機會順勢擴大玻璃基板設備相關業務。
敘豐 (3485)
敘豐早期著墨於面板濕製程設備,在競爭加劇下 2016 年後轉向高階載板濕製程設備市場,目前 90% 營收來自於高階載板,欣興為單一最大客戶。憑藉在濕製程核心能力,敘豐近年開始投入玻璃基板濕製程設備研發,目前處於研發中的 VSP 複合蝕刻機,將 TGV 形成後玻璃核心表面的金屬佈線多個濕製程環節整合:
銅線路形成前清洗 Precleaner
銅線路形成光阻顯影 Developing
銅線路形成去光阻 Stripping
銅鈦晶種層蝕刻 Etching

(圖片來源:敘豐法說會)
雖然敘豐在玻璃基板領域處於前期研發階段,但考量敘豐在大尺寸面板、板材搬運經驗豐富,濕製程設備已大量被欣興採用,估計有可能成為欣興後續發展玻璃載板的重要供應夥伴。
揚博 (2493)
揚博為 PCB 濕製程設備與半導體耗材代理商,目前營收分布:
高階 HDI、類載板、載板濕製程蝕刻、去膜、清洗設備,約佔營收 6 成
半導體與先進封裝材料代理,佔營收近 4 成
公司近期推出用於玻璃基板製程的垂直旋轉蝕刻系統:採用垂直懸掛傳送與旋轉噴射技術,讓化學藥水在玻璃基板上順應重力由上往下流動,可較傳統水平蝕刻更為均勻,估計主要用於 TGV 形成後玻璃核心表面的金屬佈線多個濕製程環節 (顯影、去光組、晶種層蝕刻)。目前已有交機實績,但後續交貨量能否進一步擴展仍需觀察。
群翊 (6664)
群翊為全球最大的 PCB 塗佈、烘烤設備大廠,目前營收組成為:
高階載板 & 先進封裝設備:55~60%
傳統 PCB 相關設備:25%
光學、面板相關設備:15%
作為鈦昇成立的 E-Core System 玻璃基板聯盟一員,群翊在聯盟中的定位為烘烤、壓合、液相塗佈解決方案者,公司嘗試切入玻璃基板製程運下面環節:
TGV 孔壁化學渡銅 - 矽烷偶聯劑塗佈設備:公司積極研發 Dip Coating 技術,把整片玻璃基板浸入液態塗佈液中,讓液體在表面與 TGV 孔壁留下均勻薄膜,解決孔壁內藥液不均勻問題
TGV 孔壁化學渡銅 - 退火設備
玻璃表面金屬佈線 - 乾膜光阻壓合設備
玻璃表面金屬佈線 - 乾膜光阻烘烤設備
ABF 壓合設備
ABF 化學渡銅 - 藥液塗佈設備
ABF 金屬佈線 - 乾膜光阻壓合設備
ABF 金屬佈線 - 乾膜光阻烘烤設備
群翊已經是 Intel 先進封裝 EMIB 設備供應商,隨著 Intel 與 E-Core System 積極推展玻璃載板,公司玻璃基板設備發展有望加速。

(圖片來源:群翊法說會簡報)
蔚華科 (3055)
蔚華科為半導體測試、封裝及檢測設備業者,主要以海外設備代理銷售與技術服務為主。公司近年積極轉型發展自主設備,以自研 SpiroxLTS 雷射斷層掃描技術,切入先進封裝非破壞性 3D 檢測設備市場。公司目前推出的 SP8000S 非破壞性 TSV 檢測設備,已經於 2026Q2 交付第一套設備給台灣晶圓代工業者,與客戶正在討論後續機台需求與產能規劃。
在玻璃基版領域,公司也推出 SP8000G TGV 非破壞性檢測系統,可用於 TGV 開孔製程多個環節:
玻璃內部雷射改質均勻性量測
TGV 孔形與孔壁粗糙度量測
TGV 玻璃裂紋檢測
孔壁金屬層高度分布檢測
目前已獲晶呈科技、欣興及海納光電等 TGV 相關業者初步肯定,持續與多家國際客戶進行樣品驗證與製程導入,後續有望成為自主設備銷售另一動能。

(圖片來源:蔚華科法說會簡報)
倍利科 (7822)
倍利科技為半導體光學檢測量測設備商,但與傳統僅著重硬體組裝的設備商不同,公司強項在於具備自家的 AI 影像演算法與軟體。受惠切入台積電 CoWoS 製程檢測環節,公司 2023~2025 年營收成長近 9 倍,目前台積電佔公司營收比重超過 6 成!對於台積電新一代將導入玻璃載板的 CoPoS 封裝製程,倍利科目前亦積極配合客製化,後續可持續關注公司在 CoPoS 進展。