SK 海力士 2026 年引進 Hi-NA EUV，開發尖端記憶體技術

為什麼重要

• SK 海力士引進 Hi-NA EUV 裝置將直接提升其在尖端記憶體技術領域的競爭力，影響全球記憶體市場格局。

• 三星和 SK 海力士的投資決策將促進半導體製造裝置供應商，特別是 ASML 的業務增長。

背景故事

#High-NA EUV、#EXE:5000、#三星

• High-NA EUV 技術是下一代極紫外光刻技術，能夠提供更高的解析度和生產效率，適用於更先進的半導體製程。

• ASML 推出的首款 High-NA EUV 裝置「EXE:5000」標誌著這項技術的商業化程式，售價高達 3.8 億美元。

• 三星已計劃於 2025 年 Q1 引入「EXE:5000」，顯示領先半導體製造商對於採用先進製程技術的迫切需求。

發生了什麼

#SK 海力士、#0a DRAM、#研發團隊

• SK 海力士宣佈計劃於 2026 年引進 Hi-NA EUV 裝置，用於開發尖端記憶體技術。

• 該技術將首次應用於 0a（個位數奈米級 DRAM）的量產，目標實現 2 奈米工藝。

• 為加速技術開發，SK 海力士正在建立新的研發團隊並擴充人員。

接下來如何

#計劃揭露、#全球競爭力、#技術競賽

• SK 海力士將進一步揭露具體計劃，包括晶圓廠引進裝置和追加投資的細節。

• Hi-NA EUV 技術的成功開發和應用將提升 SK 海力士在全球半導體市場的競爭力。

• 預期 SK 海力士與其他半導體製造商之間的技術競賽將進一步加劇。

他們說什麼

• ASML CEO 彼得·韋寧克（Peter Wennink）表示，High-NA EUV 技術是半導體行業邁向更高生產效率和更小製程節點的關鍵。

• SK 海力士研發負責人強調，引進 Hi-NA EUV 技術是公司實現技術領先和滿足未來市場需求的重要策略。

提到的股票

• ASML 艾司摩爾

概念股

• 記憶體

• 曝光機

• 半導體設備

• 光罩 EUV

參考資料

• SK海力士计划2026年引入Hi-NA EUV设备