今明兩年預估 EPS？
今明年 EPS 維持雙位數成長
今、明兩年 EPS 主流預期約為 39 歐元、54～56 歐元，主因是 AI 驅動先進邏輯與高階記憶體擴產，帶動 EUV、浸潤式 DUV 及服務收入同步成長。
- 公司已將 2026 年營收指引上修至 430～450 億歐元。
- 2027 年 Low-NA EUV 產能規劃較今年增加約三成。
- 2025 年 EPS 為 29.05 元，反映本輪設備需求已進入加速期。
預期 2026 年是出貨與毛利率同步改善的一年，2027 年則受惠擴產與高階機種組合。
營收成長轉化為營運槓桿
EPS 上修的核心在於高單價 EUV 出貨、服務業務擴張，以及費用增幅低於營收。
- 第二季毛利率達 54%，高於原先指引，主要受高毛利升級與裝機服務收入帶動。
- 下半年產品組合轉佳，公司第三季毛利率指引為 55～57%。
- 研發與銷管費用雖持續投入 High-NA EUV，但預期增速低於營收，帶動營益率上升。
因此，營收規模增加不僅推升獲利金額，也有助固定成本攤提。
市場區間建立在強勁出貨假設
市場對 2026 年 EPS 的估計集中在約 38.9～39.1 歐元，2027 年則約 54.5～56.4 歐元。
- 預估基礎是 2026 年 Low-NA EUV 出貨約 65 台，2027 年提高至約 85 台。
- 新一代 E、F 系統生產力更高，可提升平均售價與毛利率。
- 先進記憶體的 HBM、DDR 製程升級，也增加 EUV 與量測設備需求。
這些預估隱含客戶資本支出與設備交付節奏大致如期。
需求延續與供應鏈是主要變數
EPS 高低將取決於客戶擴產承諾能否轉為認列營收，以及供應鏈交付是否順暢。
- AI 投資若降溫、晶圓廠延後資本支出，將影響設備接單與出貨時點。
- 出口管制、地緣政治及中國市場變化，可能影響部分 DUV 出貨。
- 關鍵光學零組件、安裝能力與 High-NA EUV 導入進度，也會左右毛利率與營收認列。
目前需求能見度提升，但設備業的季度獲利仍會隨大型機台驗收而波動。