佳能推出奈米壓印裝置,首度出貨美國半導體聯盟
發佈時間:2024/09/30
為什麼重要
佳能的奈米壓印技術提供了一種成本效益更高的解決方案,對於尋求降低生產成本的半導體製造商來說,這項技術將直接影響其成本結構和產品定價策略。
該技術對於記憶體製造業,特別是 DRAM 和 NAND FLASH 的生產有直接影響,可能加速這些產品的技術進步和市場供應。
背景故事
#奈米壓印技術、#合作夥伴、#3D NAND
佳能開發奈米壓印光刻技術超過 15 年,合作夥伴包括大日本印刷及記憶體製造商鎧俠。
佳能首先將奈米壓印技術的應用目標放在 3D NAND 工藝製造上,而非更複雜的微處理器。
發生了什麼
#FPA-1200NZ2C、#售價、#5nm 晶片
佳能宣佈其採用「奈米壓印技術(NIL)」的微影裝置「FPA-1200NZ2C」已於 2023 年 10 月開始銷售後,首度出貨給美國半導體聯盟「TIE」。
NIL 微影裝置售價只有 ASML 極紫外光(EUV)微影裝置的幾分之一。
NIL 微影裝置能用於生產 5nm 晶片,經改良後可進一步用於生產 2nm 晶片。
接下來如何
#銷售目標、#邏輯晶片、#技術並存
佳能目標在 3-5 年內每年銷售十幾臺 NIL 微影裝置。
由於邏輯晶片只有少部分結構適用奈米壓印技術,因此該技術無法完全取代 EUV 微縮技術。
佳能認為奈米壓印技術與 EUV 技術以及其他種類的技術能夠並存,其目的不在於奪走 EUV 的市場份額。
他們說什麼
佳能 CEO 表示,奈米壓印技術的開發和應用是為了補充現有的微影技術,而非取代,強調其在特定應用領域的優勢。
某市場分析師指出,佳能的 NIL 微影裝置由於成本效益高,可能會對半導體製造業造成顯著影響,特別是在高成本的 EUV 技術普及之際。
概念股
參考資料
編輯整理:Ethan Chen