台積電引進首臺 High NA EUV 光刻機
發佈時間:2024/09/10
為什麼重要
台積電以低於市場價格獲得高數值孔徑極紫外光刻機,將加速其在 3nm 及 2nm 先進製程技術的發展,進一步鞏固其在全球半導體產業的領導地位。
發生了什麼
#High NA EUV、#特別讓步、#未來訂購
台積電從 ASML 引進首臺高數值孔徑極紫外(High NA EUV)光刻機,購入價格遠低於市場報價的 3.5 億歐元。
ASML 對台積電提供特別讓步,包括價格、裝置進機、調校與技術支援。
台積電預計未來將再訂購約 70 臺 EUV 裝置,以滿足未來 3nm 及 2nm 製程的產能需求。
背景故事
#半導體製造商、#先進製程技術、#長期合作
ASML 作為全球唯一能夠提供 EUV 光刻機的供應商,其裝置對於實現更小製程節點至關重要。
接下來如何
#試用、#產能需求、#領先地位
台積電引進的首臺 High NA EUV 光刻機將主要用於試用,為未來大規模生產的 2nm 製程做準備。
隨著台積電對於未來 3nm 及 2nm 製程的產能需求,預計將進一步加大對 ASML EUV 裝置的採購。
台積電在先進製程技術領域的領先地位將因成功引進 High NA EUV 光刻機而進一步鞏固。
他們說什麼
ASML 未對外評論單一客戶的細節,強調對客戶隱私的保護。
台積電未公開評論此次交易的具體細節,但此次成功砍價反映了其在全球半導體製造業中的影響力與議價能力。
提到的股票
參考資料
編輯整理:Ryan Chen