半導體前段設備產業追蹤:記憶體、邏輯晶片擴產雙動能,半導體設備成長動能將延續至 2027 年
前言
半導體設備巨頭 - ASML、應用材料、科林研發、東京威力科創、科磊近期都已公布了最新一季營運報告,本文將整理法說會釋出的關鍵訊息,並追蹤半導體前段設備市場後續展望。內容涉及的產業與公司包含:
半導體前段設備:ASML、應用材料 (AMAT)、科林研發 (LRCX)、TEL 東京威力科創、科磊 (KLAC)
半導體前段設備供應/協力商:京鼎 (3413)、帆宣 (6196)、大銀微 (4576)、翔名(8091)、公準 (3178)、瑞耘 (6532)
半導體廠務工程:漢唐 (2404)、聖暉 (5536) 、亞翔 (6139)、洋基工程 (6691)、帆宣 (6196)、信紘科 (6667)、朋億 (6613)、兆聯(6944)
晶圓製造:台積電 (2330)、Intel (INTC)
2026 上半年回顧:記憶體與非中國區域設備採購需求強勁
回顧 2026 上半年,半導體設備大廠營運較 2025 下半年明顯加速成長
應用材料 2026 上半年營收較 2025 下半年成長 +23%
科林研發 2026 上半年營收較 2025 下半年成長 +18%
東京威力科創 2026 上半年營收較 2025 下半年成長 +16%
科磊 2026 上半年營收較 2025 下半年成長 +9%
ASML 2026 上半年營收較 2025 下半年成長 +5%
拆解五大設備業者 2026 上半年營收細項,可發現:
五大廠記憶體設備合計營收較 2025 下半年成長 +30%,明顯高於邏輯製程設備營收僅 +4%
五大廠非中國區域合計營收較 2025 下半年成長 +30%,明顯高於中國區域合計營收僅持平

非中國區域記憶體設備需求強勁,估計主要原因在於:
為了應對美對中設備出口禁令,中國業者於 23~25 上半年已提前大量拉貨,導致近期需求自然逐步轉弱。
AI 推理需求暴增下,推理上下文 / KV cache 暫存需求大增,使得記憶體短缺幅度更勝於 GPU/ASIC 運算晶片
美國撤銷三星與 SK 海力士 VEU 資格,導致兩者中國廠區設備產能難以擴充,這將促使三星、海力士必須加速於非中國區域擴充更多記憶體先進製程產能
2026 上半年記憶體與非中國設備需求強勁,符合個人過去 3 季以來預期:
記憶體設備需求上修幅度或將強於邏輯,進而有效抵銷中國設備需求加速下滑,帶動 2026 前段設備成長動能將強於個人先前預期
客戶無塵室空間逐步開出,半導體設備 2026 下半年展望上調
展望後續,在代理式 AI 需求暴升下,不僅記憶體需求持續強勁,亦同步帶動 GPU、ASIC、CPU 等邏輯運算晶片需求大增,導致記憶體、先進邏輯製程供不應求雙雙加劇,相關業者再度上調後續設備採購支出:
台積電 2026 資本支出由 560 億美元上調為 600~640 億美元,年增幅度擴大為 +47~57%
Intel 2026 設備支出由 166 億上調為 186 億美元以上,年增幅度擴大為 +40% 以上。原本定調不擴產的 Intel 10 和 Intel 7 製程也決定增產,已支應供不應求的 Server CPU 業務
三星 2026 年資本支出個人估計 400~500 億美元,年增幅度 +23~47%
SK 海力士預計 2026 資本支出 280 億美元以上,年增幅度擴大為 +34% 以上
美光 2026 年淨資本支出三次上調,由 250 億美元再次上調至 270 億美元,年增幅度擴大為 +98% 以上
鎧俠 2026 資本支出維持約 29~30 億美元,年增 +61%
以上大致符合個人過去三季以來觀點:
2026 前段設備成長動能將強於個人先前預期,並有望持續至 2026 下半年。
儘管下游客戶擴產需求強勁,但受至於既有廠房空間不足,短期沒有足夠空間可擺放設備機台,這導致上游設備廠上半年出貨受壓抑,業績成長幅度不如下游晶圓製造強勁。但隨著下游持續縮減成熟製程以騰出廠房空間,對於下半年設備採購需求開始加速,使得上游設備廠設備交付與認列營收將早於預期:
台積電自 2025 年末開始將部分成熟製程設備轉移給關聯企業世界先進,釋放更多人力資源與廠房空間給先進製程
台積電中科 Fab15A 原以 28–22nm 成熟製程為主,近期開始將 28–22nm 設備陸續移出,轉為升級至 4nm 先進製程
三星亦傳出將縮減 8 吋代工產能,估計騰出的廠房空間、機台、工程人力,將轉向並配置於 AI 先進製程與 HBM 核心領域
三星、SK 海力士、美光加速退出記憶體成熟製程,將既有廠房空間與資源轉為並配置記憶體先進製程,設備升級需求隨之上升
台積電高雄 P3 廠、美國亞利桑那 P2 廠估計 2026 下半年無塵室完工準備進機
三星平澤 P4 廠預計 2026 下半年進機,第二期估計年底進機;美國泰勒廠預計 2026 下半年進機試產
SK 海力士 M15X 第二個無塵室估計於 26 年底完工,龍仁新廠預計於 27Q1 完工準備進機
SK 海力士大連二廠可能於 2026 年底前匯入生產裝置
隨著客戶更快騰出比預期更多的無塵室空間,半導體設備五大廠 26Q3 預期營收成長將加速
科林研發預計 26Q3 營收季成長+20.5%,高於 26Q2 的 +15.1%
ASML 預計 26Q3 營收季成長+23.3%,高於 26Q2 的 +6.4%
東京威力科創預計 26Q3 營收季成長+21.2%,高於 26Q2 的 +1.3%
科磊預計 26Q3 營收季成長+9.4%,高於 26Q2 的 +7.1%
半導體設備五大廠 26Q3 預期合計營收季成長約 +18%,高於 26Q2 的 +9.7%
基於以上,個人維持過去兩季以來預期:
半導體設備業者預計 2026 下半年~2027 上半年起營運加速成長
記憶體、邏輯晶片擴產雙動能,半導體設備成長動能將一路延續至 2027 年
不僅 2026 年半導體設備採購需求持續上調,多個記憶體、先進邏輯製程廠產能預計於 2027 年裝機上線,將有利 2027 年半導體設備採購需求持續強勁 :
台積電台灣南科 Fab18 新增一座 P9 廠,預計 27Q1 裝機
台積電台灣高雄 Fab22 P4、P5 廠預計於 26 下半年~27 上半年裝機
台積電台灣新竹 Fab 20 P3 廠估計 2027 上半年進機量產
台積電日本熊本廠 Fab2 預計 27 下半年裝機
台積電台灣台中 Fab25 P1 廠有望於 27 下半年裝機
台積電美國亞利桑那 P2 廠估計 2027 下半年裝機量產,P3 廠估計 2027 年底前無塵室完工準備進機
Intel 愛爾蘭廠擴建廠房支援 intel 3 產能,預計 27 上半年裝機
Intel 奧勒岡州 D1X / MSB2 預期 2027 年底前無塵室完工準備進機
三星平澤 P4 廠預期 2027 年持續擴增產能
三星平澤 P5 廠預期 2027 年底前無塵室完工準備進機
SK 海力士韓國龍仁 Y1 / Fab 1 工廠預計 27Q2 裝機
美光愛達荷州 ID1 廠預計 27 上半年裝機
美光台灣銅鑼廠預計 27 上半年裝機
鎧俠日本北上市廠預期 2027 年持續擴增產能

在邏輯製程與記憶體大廠 2027 年持續加速擴產下,設備大廠表示訂單能見度已看到 2027 年底,持續上修 2027 年自身或整體設備產業展望:
科林研發將 2026 年晶圓廠設備 (WFE) 規模成長幅度由 +27.3% 上修至 +38~39%,並預期供不應求將持續至 2027 年
科磊預期 2026 年 WFE 規模成長幅度由 +14.8% 上修至 +23%,並預期 2027 年再成長 +26.7%
東京威力科創將 2026 年 WFE 規模成長幅度由 +15% 上修為 +21% 以上,並預期 2027 年至少再成長 +13%
ASML 表示 low-NA EUV 2027 產能被客戶訂滿,2027 年 low-NA EUV 和浸潤式 DUV 產能將擴增 +30% 以支應客戶強勁需求,這意味著 2027 年營收有望至少成長 +10~15%
應用材料表示訂單能見度高達 8 季,看好 2027 年營收將再度強勁成長
基於以上,個人維持上季以來預期:
考量因無塵室空間不足,2026 年部分設備採購需求將遞延至 2027 年,且 2027 年客戶無塵室空間將較 2026 年更為充足下,個人預期 2027 年前段半導體設備產值成長幅度將更勝今年。
後續展望
最後我們嘗試推估相關供應鏈上公司後續營運表現。
半導體前段設備:受惠客戶無塵室空間逐步開出,2026 下半年~2027 年營運加速成長
隨著下游晶圓製造客戶設備採購預算持續上修,半導體前段設備大廠亦同步上修 2026 年業績預估:
ASML 2026 年營收平均年增幅由 +10~22% 上修至 +32~38%
應用材料將 2026 年設備營收成長幅度由 +30% 上調為顯著高於 +30%
科磊 2026 年營收成長由 +17~19% 上修至 +22%
東京威力科創預期 26Q2~27Q1 營收成長由 +28.5% 上修至 +37% 以上
科林研發預期 2026 年營收成長 +42~46%
半導體設備大廠對 2026 年營收成長上調至 +30% 以上,比個人過去三季以來看漲預期更為樂觀:
主要前段設備業者:ASML、應用材料 (AMAT)、科林研發 (LRCX)、TEL 東京威力科創、科磊 (KLAC) 2026 年營運估計將仍有不錯成長
值得注意的是,隨著下游新增 5nm 以下先進邏輯製程擴產,ASML EUV 曝光機後續需求明顯受惠:
Intel 明確上調資本支出,於近期額外加碼 Intel3 擴產,14A 製程亦重啟展開擴建工程
台積電回頭加碼 5/4/3nm 製程擴產
受惠以上製程帶來額外 EUV 曝光機需求,ASML 對於今年營收成長幅度預期,已由落後同業上調為與同業持平,強於個人先前預期。以上顯示下游晶圓製造客戶擴產需求,已由上半年偏重記憶體快速轉向為記憶體、邏輯雙動能擴張,上游各類型半導體設備業者後續營運都將雨露均霑。基於以上,儘管 ASML 上半年營運表現弱於同業,個人預期後續半導體設備五大廠 - 應用材料、ASML、科林研發、東京威力科創、科磊自 2026 下半年~2027 年營運都將加速成長。
半導體前段設備供應/協力商:2026 下半年~2027 年營運加速成長
台灣有不少業者為美系半導體設備大廠的供應/協力商,例如:帆宣(6196)、京鼎 (3413)、大銀微 (4576)、 翔名(8091)、公準 (3187)、瑞耘 (6532) … 等,其業績與美系客戶營運高度連動。
設備大廠為了因應下游客戶 2026 下半年~2027 年強勁需求,亦同步開始擴充自身產能:
Brice Hill,應用材料 CFO
基於客戶釋出的長期需求訊號,我們正進一步行動,招募並訓練新的製造與客戶支援團隊,使我們到 2028 年能將每季系統產出能力在目前水準上再翻倍。
Based on the longer-term demand signals from our customers, we are now taking this further, hiring and training new manufacturing and customer support teams so that we have the capacity to double our quarterly system output from current levels by 2028.
Roger Dassen,ASML CFO
針對 2027 年,我們目前低 NA EUV 的訂單幾乎已接近完全覆蓋,我們規劃將低 NA EUV 產能提升約 30%。展望 2028 年,我們已收到相當數量的低 NA EUV 訂單。客戶強勁的需求預測,促使我們評估該年度再進一步提升 30% 產能的可能性。同樣地,針對我們的浸潤式系統,我們計畫在 2027 年將產能提升 30%,並評估 2028 年可能再進一步擴增 30%。
For 2027, we are now close to being fully covered with orders for low NA EUV, and we are planning to increase our low NA EUV capacity by around 30%. Looking ahead to 2028, we have already received a significant number of low NA EUV orders. Strong demand forecasts from our customers have led us to investigate a further 30% capacity increase for that year. Similarly, for our immersion systems, we intend to increase capacity by 30% in 2027 and are investigating a potential further 30% expansion for 2028.
隨著前段半導體設備大廠積極擴產,相關供應/協力商將直接受惠,個人持續維持過去三季以來觀點,預期半導體設備大廠的供應/協力商 - 京鼎 (3413)、帆宣 (6196)、大銀微 (4576)、翔名(8091)、公準 (3178)、瑞耘 (6532) … 將持續受惠。
半導體廠務工程:2026~2028 年持續受惠台積電台、美兩地加速擴產
AI 需求導致記憶體、邏輯晶片供不應求下,全球半導體製造大廠持續擴大晶圓廠興建。其中台灣晶圓製造業者於 2027~2028 年多個新廠建案持續加速展開:
台積電高雄 Fab22 P5 廠興建中,預計 27 年完成興建
台積電台中 Fab25 P1 廠預計 27 年完成興建,P2 廠 26 年開始動工
台積電新竹寶山 Fab20 P4 廠興建中,預計 27 年完成興建
台積電南科 Fab18 P9 廠預計於 2027 年上半年量產;P10 預計 27 年動工,29 年後完工
台積電台南安定 Fab22 P7 廠於 2026 年下半年動工,可能於 2028 年底完工
台積電美國亞利桑那 P3 廠估計 27 年完成興建,P4 廠預計將於 26 年開始興建
台積電美國亞利桑那先進封裝廠 AP1 預計將於 26 年開始興建,可能於 28 上半年完成土建
聯電新加坡 Fab12i P4 廠預計 27 上半年完工
聯電台南 Fab12A P7/P8 預期 2028 上半年完成土建
美光苗栗銅鑼廠第二無塵室於 26 下半年開工,可能於 28 年底前完工

持續增加、且延續至 2028 年的多個晶圓廠興建,有利台灣廠務工程業者 2027~2028 年營運持續向上。個人維持 過去五個季度以來看好廠務工程未來三年成長的觀點:
漢唐 (2404)、聖暉 (5536) 、亞翔 (6139)、洋基工程 (6691)、帆宣 (6196)、信紘科 (6667)、朋億 (6613)、兆聯(6944) 等業者 2026~2028 年穩定成長。