英特爾 3nm 制程技術,引領產業新篇章
發佈時間:2024/06/24
為什麼重要
英特爾 3nm 制程技術的量產,將直接提升其處理器性能,對伺服器、雲計算及人工智慧產業造成正面影響。
英特爾在晶背供電技術上的領先,有助於降低成本並提升供電效率,對比台積電成本較高的封裝技術,可能使英特爾在競爭中獲得優勢,進而影響全球半導體市場格局。
背景故事
英特爾 CEO Pat Gelsinger 上任後,積極推動公司技術革新,目標在效能、功耗及面積(PPA)方面領先業界。
發生了什麼
英特爾晶圓代工技術研發副總裁 Walid Hafez 宣布,其 3nm 制程 Intel 3 在奧勒岡廠及愛爾蘭廠已進入量產階段。
Intel 3 制程目前專門用於生產 Xeon 6 處理器,包括最近發布的「Sierra Forest」及「Granite Rapids」。
英特爾宣布將推出支持直通矽晶穿孔封裝技術的 Intel 3T 版本,以及功能更提升的 Intel 3-E,適用於晶片組及存儲技術。
接下來如何
英特爾預計其 18A 及之後的制程,在效能、功耗及面積方面將領先業界,進一步鞏固其在半導體製程技術的領先地位。
Intel 3-PT 版本將適用於廣泛的負荷規格,包括 AI/ 高效能運算(HPC)以及一般用途的 PC,預期將擴大英特爾在各市場領域的影響力。
英特爾將透過提升晶背供電技術和降低封裝成本,逐步提高其毛利率,增強市場競爭力。
他們說什麼
英特爾 CEO Pat Gelsinger 表示,18A 工藝與台積電的 N2 工藝在晶體管技術上相差無幾,沒有明顯的領先者,強調英特爾在技術上的追趕。
市場分析師普遍認為,英特爾在晶背供電技術上更為出色,這不僅提升了矽晶片的面積效率,也意味著成本降低和供電表現提升,對英特爾的市場競爭力是一大利好。
提到的股票
概念股
參考資料
編輯整理:黃沛琪