Intel 愛爾蘭工廠開始使用 EUV 光刻機，挑戰台積電市場地位
為什麼重要
Intel 在愛爾蘭的工廠開始使用極紫外線（EUV）光刻機進行高量產，這是該公司迎頭趕上競爭對手的重要步驟。此舉將直接影響半導體產業的競爭格局，並可能改變 Intel 與台灣積體電路製造公司的市場地位。
Intel 的這項投資創造了歐洲首個端到端領先半導體製造價值鏈，這將有助於該集團減少對美國和亞洲供應的依賴。
背景故事
Intel 曾經是全球領先的晶片製造商，但已經落後於台灣積體電路製造公司，並正在努力以使其製造技術迎頭趕上。
Intel 的目標是在四年內交付五代技術，其中極紫外線（EUV）光刻機在實現此目標的過程中起到關鍵作用。
Intel 通常會在俄勒岡州波特蘭郊區的希爾斯伯勒的研發站點完成新的製程，然後將製程模板出口到其他站點。
發生了什麼
Intel 於 9 月 29 日表示，已在愛爾蘭的 185 億美元工廠中開始使用極紫外線（EUV）光刻機進行高量產。
該工廠位於都柏林郊區的 Leixlip 鎮，是該集團 Intel 4 製程的首個高量產地點，該製程使用 EUV。
該技術將生產即將推出的「Meteor Lake」筆記本電腦晶片，為 AI PC 鋪平道路。
接下來如何
Intel 預計今年晚些時候將在俄勒岡州收到其首台下一代極紫外線光刻機，即 High-NA EUV。
除了在愛爾蘭的設施外，Intel 還計劃在德國建立一個大型晶片園區，並在波蘭建立一個半導體裝配和測試設施。
Intel 在愛爾蘭的投資，以及在德國和波蘭的現有和計劃中的投資，將創造歐洲首個這種類型的端到端領先半導體製造價值鏈。
他們說什麼
Intel 的技術開發總經理 Ann Kelleher 表示，該公司正在努力實現這一目標，現在已經完成了兩個製程，第三個「迅速到來」，最後兩個也取得了很好的進展。
在愛爾蘭工廠開幕時，Intel CEO Pat Gelsinger 將其描述為「歐洲最好的一天」。
