半導體新裝置有助 EUV 工藝成本大幅降低

為什麼重要

• 應用材料公司和東京電子推出的新裝置將直接降低半導體製造成本，提高產量，對於台積電、英特爾和三星等主要半導體製造商具有直接影響。

• 此技術進步預計將加劇半導體製造裝置市場的競爭，影響相關公司的市場地位和財務表現。

背景故事

#EUV 曝光工藝、#成本上升、#新裝置

• EUV 曝光工藝對繪製超精細電路至關重要，但成本隨工藝數量增加而迅速上升。

發生了什麼

#Acrevia、#Centura Sculpta、#臺積電和英特爾

• 東京電子推出的半導體器件「Acrevia」，可修改微電路圖案，利用高能量氣體分子聚集抑制表面損傷，減少新節點的 EUV 多重圖案化使用量、增強線邊緣粗糙度、減少隨機光刻缺陷，降低成本提高產量。

• 應用材料開發的「Centura Sculpta」使用離子束脩改電路，旨在縮短 EUV 曝光工藝步驟，預計可將每片晶圓的生產成本降低 50 美元以上。

• 台積電和英特爾已將「Centura Sculpta」引入 EUV 產線，三星電子也在其 4nm 工藝中進行效能評估。

接下來如何

#年銷售額、#市場競爭

• 應用材料預測，從今年開始，EUV 工藝縮短裝置的年銷售額將超過 5 億美元。

• 隨著東京電子加入市場，半導體製造裝置市場的競爭將變得更加激烈。

他們說什麼

• 東京電子表示，新裝置將改善圖案側壁粗糙度，最佳化曝光工藝，減少良率下降的缺陷。

• 應用材料在「Centura Sculpta」推出一年後銷售額達到 2 億美元，展現了市場對於新技術的高度認可。

提到的股票

• AMAT 應用材料

概念股

• 半導體設備

• 晶圓檢測設備

參考資料

• 应用材料 VS 东京电子“EUV工艺缩短竞赛”开打