提升半導體製程，Applied Materials 創新突破

為什麼重要

• 這些技術的進步對於整個半導體產業鏈，包括設備製造商、晶圓廠以及最終的電子產品製造商，都將帶來深遠影響，從提高產量、降低成本到增強晶片性能等多方面提升整體產業的競爭力。

背景故事

• Applied Materials 作為世界第一大半導體設備公司，長期致力於開發先進製程技術，以滿足半導體產業對高效能、低成本製程的需求。

發生了什麼

• Applied Materials 於 4 月 4 日 在韓國城南的總部舉辦媒體圓桌會議，介紹了針對 EUV 製程的新型設備，包括 Centura Sculpta、Producer XP Pioneer CVD 和 Sym3 Y Magnum。

• Centura Sculpta 設備新增功能，能夠消除 EUV 製程中產生的橋接缺陷，這種缺陷佔所有 EUV 圖案化錯誤的 50%。

• Applied Materials 強調，其設備組合能夠提高晶圓廠的產量並降低成本，目前正在客戶的 2nm 製程中測試橋接缺陷消除功能。

接下來如何

• 隨著半導體行業對於更高精度和更低成本的持續追求，Applied Materials 的創新設備和技術將為市場帶來更多的合作機會和發展潛力。

他們說什麼

• Applied Materials Korea 的代表 Park Kwang-sun 表示，為了實現超微細圖案化，需要多種製程技術，Applied Materials 以其前端製程技術為基礎，專注於 EUV 曝光製程及前後製程。

• Applied Materials 的總經理 Lee Gil-yong 回答說，理論上，Centura Sculpta 設備也可以應用於乾式抗蝕劑，目前 EUV PR 主要使用化學放大型抗蝕劑（CAR）。

提到的股票

• AMAT 應用材料

概念股

• 半導體設備

• 晶圓檢測設備

• 晶片製造

參考資料

• 어플라이드, EUV 전·후 공정 공략 위한 포트폴리오 소개