ASML 高數值孔徑極紫外光工具，引領半導體新里程
發佈時間：2024/03/01
為什麼重要
ASML 的新型高數值孔徑極紫外光工具將有助於實現更小、更快的晶片，對於半導體產業的發展具有關鍵性影響。先進晶片製造商如台積電、三星及英特爾已計劃採用此工具，將直接影響其產品性能與市場競爭力。
背景故事
高數值孔徑極紫外光 (High-NA EUV) 光刻系統是 ASML 的最新產品，預期將推動半導體技術的下一個里程碑。
發生了什麼
ASML 確認其新型高數值孔徑極紫外光光刻系統已開始運作，該系統的大小相當於雙層巴士，每具成本超過 3.5 億美元。
第一個高數值孔徑工具位於荷蘭 Veldhoven 的 ASML 實驗室，第二個則正在美國俄勒岡州希爾斯伯勒附近的英特爾工廠組裝。
接下來如何
高數值孔徑極紫外光工具預計將有助於實現新一代更小、更快的晶片。
台積電和三星，預計將在未來 5 年內採用該工具。
他們說什麼
英特爾在上週活動中表示，打算在其 14A 代晶片的生產中使用該工具。
提到的股票
概念股
參考資料
編輯整理：黃沛琪
