ASML 新光刻設備，推動晶片製造進步

為什麼重要

• ASML 推出的 Twinscan NXE:3800E 提高了晶片製造的效率和精度，直接影響半導體產業的生產能力，尤其對於 3 奈米及 2 奈米晶片製造具有關鍵作用。

• 該設備的上市不僅提升晶片生產速度，還能增加晶片生產的經濟性，對於追求高效能和高精度晶片的科技公司來說，這是一項重要進展。

背景故事

• ASML 是全球領先的光刻設備製造商，專注於為半導體產業提供先進的製造技術。

• 極紫外光（EUV）光刻技術是製造先進晶片的關鍵，能夠支援更小製程節點的晶片生產。

發生了什麼

• ASML 交貨了第三代標準型極紫外光微影設備 Twinscan NXE:3800E，該設備配備 0.33 數值孔徑透鏡，支援 3 奈米及 2 奈米晶片製造。

• Twinscan NXE:3800E 的推出，每小時可處理 195 片晶圓，相較於前一代 Twinscan NXE:3600D 的 160 片，提升約 22%。

• ASML 在社群媒體宣布第一台 Twinscan NXE:3800E 已安裝於一家晶片工廠，強調其對先進晶片生產力的貢獻。

接下來如何

• Twinscan NXE:3800E 的處理速度未來有可能提高至每小時 220 片晶圓，進一步提升晶片生產效率。

• ASML 預計於 2026 年發布下一代低數值孔徑 EUV 設備 Twinscan NXE:4000F，將與高數值孔徑解決方案共存，進一步推動半導體製造技術的進步。

他們說什麼

• ASML CEO 表示，Twinscan NXE:3800E 的推出是半導體製造技術的一大步，將使客戶能夠生產更高效能、更高密度的晶片。

• 市場分析師指出，隨著 Twinscan NXE:3800E 的投入使用，預期將對半導體產業的先進製程能力產生顯著影響，特別是在 2 奈米及以下製程節點的應用。

提到的股票

• ASML 艾司摩爾

概念股

• 半導體設備