ASML 新產品提升效率，2025 年推出 0.55 NA 設備

為什麼重要

ASML 預計於 2025 年將新產品 NXE:3800E 投入商業使用，此一設備能繪製更細微的電路，對於半導體產業的微縮進程將產生重大推動力，並可能帶動相關生態系統如光阻和遮罩等的發展。

背景故事

ASML 是極紫外線 (EUV) 曝光設備的唯一製造商，主要用於生產 3nm 以上的系統半導體和 10nm 級的 D 級記憶體。自 2018 年開始量產設備後，截至 3Q23，ASML 已經交付了 213 台 0.33 數值孔徑 (NA: Numerical Aperture) 設備。

發生了什麼

• ASML 計劃於 2024 年供應新產品 NXE:3800E，該設備的 NA 為 0.33，每小時最多可以處理 220 片晶圓，其機器匹配覆蓋 (MMO) 為 0.9nm。

• NXE:3800E 相比前一代產品，生產速度提高了 40%，MMO 改善了 0.2nm。

• ASML 韓國的執行董事鄭鎮恒表示，為了提高生產效率，除了提高晶圓處理速度外，還增加了雷射掃描強度，並將測量感應器從一個增加到兩個。

接下來如何

• 高 NA，即 0.55 NA 設備預計於 2025 年投入商業使用，所有使用 0.33 NA 設備的公司都已確定將引入 0.55 NA 設備。

• NA 值的提高意味著可以繪製更細微的電路。

• 鄭鎮恒表示，研發用的 0.55 NA 第一台設備「EXE:5000」已在第四季度供應，而量產用的 0.55 NA 設備「EXE:5200B」將於 2025 年開始出貨。

他們說什麼

• ASML 韓國執行董事鄭鎮恒表示，ASML 將繼續進行為支持高 EV 製程轉換以及光阻 (PR) 和遮罩等生態系統的研究。

• ASML 韓國執行董事鄭鎮恒表示，雖然半導體市場目前有所疲軟，但預計到 2030 年將增長到 1 兆美元的規模，ASML 將努力及時供應設備以應對這種增長。

提到的股票

• ASML 艾司摩爾

• INTC 英特爾

• TSM 台積電 ADR

概念股

• 曝光機

• 半導體設備

• 光罩 EUV

• 晶圓檢測設備