ASML 首批「High NA」光刻系統運往 Intel，開啟半導體新紀元
為什麼重要
ASML的新型「High NA」極紫外線光刻系統將有助於製造更小、更快的半導體。
背景故事
ASML 是全球最大的光刻系統製造商，其產品在創建半導體的過程中執行了關鍵的步驟。該公司是唯一一家生產由 TSMC、Samsung Electronics Co. 和 Intel 用於最先進製造的極紫外線光刻機的生產商。
Intel 在 2022 年訂購了首台 High NA 試驗機，並計劃在 2025 年開始使用該系統進行生產。D1X 是 Intel 開發和完善其未來生產技術的設施。
ASML 在 11 月 30 日告訴記者，該公司預計將在年底前運送第一台試驗工具。
發生了什麼
ASML 於 12 月 21 日表示，正在向 Intel 運送其新型「High NA」極紫外線光刻系統的首批設備，這些新機器的價格將超過每台 3 億美元。
ASML 在 X 社交媒體平台上發布了一張該機器從其荷蘭 Veldhoven 總部出發的部分圖片，該機器被裝在一個繫有紅絲帶的保護殼中。
ASML 主導了光刻系統市場，這些機器使用激光幫助創建晶片的電路。 High NA 機器在組裝完成後將比卡車還大，正在分 250 個獨立的箱子（包括 13 個大容器）運送。
接下來如何
預計這些 High NA 機器將在 2026 年或 2027 年開始用於商業晶片製造。
除了 Intel，其他已訂購這些機器的晶片製造商包括 TSMC、Samsung、SK Hynix 和 Micron。
高 NA EUV 機器的第二代，稱為 EXE:5200B，將具有更高的生產力，並且價格將超過 3.5 億歐元。
他們說什麼
ASML 在聲明中表示：「我們很興奮並以向 Intel 運送我們的首台 High NA EUV 系統為榮。」
Intel 首席執行官 Pat Gelsinger 承諾他的公司將獲得這種新型機器的首批，顯示他致力於回歸製造技術的最前沿。
