全球半導體業界為 2nm 領導權展開競爭，預計 2025 年開始大規模生產
發佈時間：2023/12/15
為什麼重要
全球半導體業界正為 2nm 的領導權展開競爭，TSMC、三星電子和 Intel 等巨頭的動向將影響整個產業鏈的發展。2nm 的大規模生產將於 2025 年開始，對於半導體製程技術的進步有著重大推動作用。
High-NA EUV（極紫外線）生態系統的建立將加速，對於材料和零部件領域的技術開發有著重大影響。ASML、Applied Materials、Synopsys 等公司的研究趨勢和技術發展，將對半導體製程設備的未來走向產生決定性影響。
背景故事
全球半導體業界正為 2nm 的領導權展開競爭，其中 TSMC 領先一步，三星電子和 Intel 正透過 2nm 製程縮小差距。而 High-NA EUV 設備是 ASML 的下一代光刻設備，對於 2nm 以下的製程是必要的設備。
發生了什麼
根據英國《金融時報》報導表示，半導體業界巨頭已開始下一代製程競賽，2nm 的大規模生產預計將於 2025 年開始。
預計在 High-NA EUV 時代，將在材料和零部件領域加速技術開發。
業界提出的 High-NA EUV 製程商業化的先決問題包括：遮罩、、PR、EUV 功率改進等。
ASML 正在開發能提供 500W、600W 源功率的設備，並正在準備 High-NA EUV 之後的設備，這是將開口數擴大到 0.75 的 Hyper NA EUV 設備。
他們說什麼
漢陽大學教授吳慧根表示，這些問題都是因為 EUV 的波長短而產生的問題」，「為了引入 High-NA EUV 或改進現有 EUV 製程的通量，需要改進材料和零部件。
ASML 表示，Hyper NA EUV 設備將在大約 10 年後生產。
提到的股票
概念股
編輯整理：黃沛琪
