東京電子創新技術，引領半導體綠色製程
發佈時間：2024/04/08
為什麼重要
東京電子（TEL）的極低溫蝕刻技術能顯著提高 NAND 生產效率並減少碳排放，對半導體產業的環保與效率提升有直接影響。
三星電子對該設備的高評價及預計的大規模採用，顯示了其在市場上的潛在需求與影響力，可能改變半導體製造商的生產策略。
背景故事
東京電子（TEL）長期致力於半導體製造設備的創新，尤其在蝕刻設備領域持續進行技術開發。
傳統的 NAND 蝕刻過程使用含碳氟化物（CF）系列氣體來形成鈍化層，但這一過程對環境有較大影響。
隨著全球對環保意識的提升和半導體製程技術的進步，業界對減少碳排放和提高蝕刻效率的需求日益增加。
發生了什麼
東京電子（TEL）使用氟化氫（HF）作為極低溫蝕刻設備中的蝕刻氣體，能在無碳狀態下形成鈍化層，有助於進行均勻的蝕刻過程。
該設備的蝕刻速度是傳統設備的 3 倍以上，能在 33 分鐘內完成 10 微米的蝕刻，且碳排放量相比傳統蝕刻過程減少最多 84%。
三星電子半導體研究所正在對 TEL 的極低溫蝕刻設備進行多項測試，並在設備評估中獲得高評價。
接下來如何
業界預計 TEL 的極低溫蝕刻設備將從第 10 代 NAND 開始使用，預計將在 NAND 生產線上大規模採用。
由於 NAND 需求惡化和極低溫蝕刻設備的高價格，其採用可能會延遲。
TEL 宣布從 2024 年 4 月的會計年度到 2028 年 4 月的會計年度，每年將招聘約 2000 名新員工，以加強研發和提高客戶服務能力。
他們說什麼
三星電子半導體研究所的評估報告中提到，TEL 的極低溫蝕刻設備在效率和環保方面的表現超出預期。
東京電子（TEL） CEO 表示，公司將持續投資於極低溫蝕刻技術的研發，以滿足市場對高效能且環保的半導體製造設備的需求。
概念股
參考資料
編輯整理：黃沛琪
