SK 海力士研發 400 層 NAND Flash,計劃明年底量產
發佈時間:2024/08/01
為什麼重要
SK 海力士開發的 400 層 NAND Flash 將直接提升儲存產品的密度與效率,對於消費電子、資料中心及汽車產業的儲存需求有顯著影響。
背景故事
#技術競賽、#儲存密度、#混合鍵合
SK 海力士一直在 NAND Flash 領域與三星電子等競爭對手進行技術競賽,不斷尋求創新以提高儲存密度和生產效率。
NAND Flash 技術的發展趨勢是增加儲存單元的層數,以實現更高的儲存容量和更佳的成本效益。
混合鍵合技術的引入,特別是 W2W 技術,被視為解決提高 NAND 層數時面臨的技術挑戰的關鍵。
發生了什麼
#400 層 NAND、#W2W 技術、#PUC 結構
SK 海力士開始研發 400 層 NAND Flash,計劃明年年底實現大規模生產,並預計於 2026 年上半年全面量產。
該公司計劃採用「混合鍵合」技術,具體是「晶圓到晶圓(W2W)」技術,以實現 400 層 NAND Flash 的生產。
SK 海力士採用的「Peri-Under-Cell(PUC)」結構,將儲存單元堆疊在外圍電路之上,以提高儲存密度和生產效率。
接下來如何
#技術發展、#市場影響、#成本效益
SK 海力士的 400 層 NAND Flash 生產計劃將推動 NAND Flash 技術向更高層次發展,可能對儲存市場產生重大影響。
混合鍵合技術的成功應用可能會促使其他 NAND 製造商採用類似技術,從而加速 NAND Flash 技術的整體進步。
隨著 400 層 NAND Flash 的量產,預計將進一步提升儲存裝置的效能和容量,同時可能降低單位儲存成本。
他們說什麼
SK 海力士表示,目前無法對 400 層 NAND Flash 的技術研發或量產時期的具體計劃進行評論,顯示公司對於技術細節和生產進度的保密性。
概念股
參考資料
編輯整理:Maggie Wei