DSA 技術，半導體製程新革命

為什麼重要

三星和英特爾等公司的 DSA 技術研究直接影響半導體製程的進步，將提升未來晶片的製造精度和效能。

背景故事

EUV 技術作為當前半導體製造中的關鍵技術，其精度和效率直接影響到晶片的性能和產量。

發生了什麼

• 三星和英特爾等半導體公司正在研究定向自組裝（DSA）技術，旨在解決極紫外（EUV）工藝過程中出現的圖案錯誤。

• DSA 技術被能夠補充 EUV 過程中的隨機誤差，這類誤差占 EUV 圖案錯誤的 50%。

• 業界預測，DSA 技術將從使用 High-NA EUV 的 1.4nm 工藝和 10nm 以下的 DRAM 工藝開始正式引入。

接下來如何

• 隨著 DSA 技術的研究和應用進展，預計將對半導體製造業帶來革命性的影響，特別是在提高晶片製造的精度和降低錯誤率方面。

• DSA 技術的成功應用將使得更先進的半導體製程得以實現，進一步推動半導體技術的發展。

他們說什麼

• 英特爾代工旗下邏輯技術開發部門光刻、硬件和解決方案主管 Mark Philip 表示，「使用 DSA（高數值孔徑 EUV）的研究正在進行中，通過應用 DSA，我們正在改進模式粗糙度（LER）」。

• 英特爾在近期發表的論文中指出，其將 DSA 技術應用於 18nm 以下工藝，並成功糾正了 EUV 圖案中發生的隨機誤差。

提到的股票

• INTC 英特爾

概念股

• 晶片製造

參考資料

• 三星或在10nm以下DRAM工艺引入DSA技术