應用材料 (AMAT) 的稅後淨利成長率

最新單季稅後淨利為 1,731,000.0 千元,年增 -13.62%;最新近四季稅後淨利為 7,177,000.0 千元,年增 4.68%。
單季稅後淨利年增率:與去年同季稅後淨利作比較,可看出短期稅後淨利成長動能
近 4 季稅後淨利年增率:近 4 季稅後淨利與去年同期數據作比較,可看出長期稅後淨利成長動能
季度 20241 20242 20243 20244
單季稅後淨利年增率 17.59 9.33 9.29 -13.62
近4季稅後淨利年增率 10.98 12.58 15.63 4.68

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AMAT 單季稅後淨利年增率 vs 產業代表性公司

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* 代表性公司是指各族群中營收前三大的公司
半導體設備
單季稅後淨利年增率 - 代表性公司數據如下(單位:%)
1
ASML
0.15
2
AMAT
-0.14
3
LRCX
0.26
AMAT -0.14,產業平均 -0.21
晶圓檢測設備
單季稅後淨利年增率 - 代表性公司數據如下(單位:%)
1
ASML
0.15
2
AMAT
-0.14
3
KLAC
0.28
AMAT -0.14,產業平均 0.43
薄膜沈積
單季稅後淨利年增率 - 代表性公司數據如下(單位:%)
1
AMAT
-0.14
2
LRCX
0.26
3
京鼎
0.23
AMAT -0.14,產業平均 0.06
蝕刻
單季稅後淨利年增率 - 代表性公司數據如下(單位:%)
1
AMAT
-0.14
2
LRCX
0.26
3
京鼎
0.23
AMAT -0.14,產業平均 0.12
化學氣相沈積
單季稅後淨利年增率 - 代表性公司數據如下(單位:%)
1
AMAT
-0.14
2
LRCX
0.26
AMAT -0.14,產業平均 0.06
半導體研磨
單季稅後淨利年增率 - 代表性公司數據如下(單位:%)
1
AMAT
-0.14
2
京鼎
0.23
3
瑞耘
-0.13
AMAT -0.14,產業平均 -0.01

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化學氣相沈積
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半導體研磨
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